微小孔近场衍射光强的空间分布及仿真.pdfVIP

1D 电 子 工 业 董 用 设 蚤 先进光刻技术与设备 微d,-~L近场衍射光强的空间 分布及仿真 贾亚飞，蒲继祖 (中国电子科技集团公司第四十五研究所，北京 100176) 摘 要 ：阐述 了微小孔近场衍射 的基本理论 。重点对单色光垂直入射时圆孔衍射场的光强空间 分布进行 了计算机数值模拟 。通过对不 同半径 圆孔的衍射场光强进行仿真 ，分析得到 了衍射场光 强的空间分布特性。对接近式曝光技术参数的设定具有理论指导意义。 关键词 ：接近式曝光 ：微小孔 ：近场衍射 中图分类号：TN305．7 文献标识码 ：B 文章编号：1004—4507(2012)12—0021—05 LightIntensitySpaceDistributionandSimulationof Near-FieldDiffraction ofSmallAperture JIA Yafei，PU Jizu (The45ResearchInstituteofCETC，Beijing100176，China) Abstract：Thispaperbrieflyexpoundsthenear-fielddiffractiontheoryofsmallaperture，andfocuses oncomputernumericalsimulationoflightintensityspacedistributionindiffractionfieldwhileincident lightismonochromaticandvertica1．Basedonsimulationandanalysisoflightintensiyt indifferent radiusaperturesdiffractionfield，thepapergetsthelightintensity spacedistributioncharacteristics whichhastheoreticguidingsignificanceforproximityexposuretechnicalparameters． Keywords：proximiytexposure，smallaperture，near-fielddiffraction 近年来，亚微米、纳米级光刻成为光刻技术发 近式曝光实质是光经过微小孔的近场衍射，其光 展的趋势，但 由于接触式和接近式曝光技术有着 强的空问分布直接影响曝光质量。应加深对微小 技术条件简单、曝光面积大、生产效率高、运行成 孔近场衍射光强空间分布的研究，详细分析微小 本低的特点，在发展投影缩小光刻的同时，微细加 孔近场衍射光强的三维空间分布特性，并以此改 工行业也仍在利用这种 (接触式、接近式)光刻技 善曝光工艺参数。 术进行微细图形的加工。由于在接触式曝光中掩 本文通过分析微小孔近场衍射光强的三维空 模板和基片间也存在一定的问隙，所 以，接触、接 间分布特性，为设计和设定接触、接近式曝光工艺 收稿 日期 ：2012．10—11 皿■唧 (总第215期)⑧ 先进光刻技术与设备 电 字 工 业 专 用 设 备 ■ 参数提供理论上的支持。 (3)式可进一步表示为：