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摘 要
本文主要研究了新型缓蚀剂ATA(3.氨基.1,2,4.三氮唑)及其复配在铜及合金
表面的缓蚀作用。通过电化学方法、光电化学方法与表面增强拉曼光谱(SERS)
等技术研究了缓蚀剂觚A对铜及合金的缓蚀作用,主要工作如下:
ATA对铜的缓蚀研究:
(1)ATA对铜在3%NaCl溶液中有较好的缓蚀效果,其中,浓度以20mg·L。1
子通过很强的吸附于铜表面达到抑制其腐蚀的作用,是与cu+形成配合物来阻
止氯离子化合物(CuCl2’)的生成。
(2)ATA对铜在模拟水溶液中有较好的缓蚀效果,其中,浓度以15mg·LJ为
最佳,缓蚀效率达92.12%;ATA(15mg·LJ)对铜在不同C1’质量浓度的模拟水中有
一定的缓蚀效果,当增加Cl‘的量时,ATA缓蚀效果增强,这是因为,一定量的
Cl。首先在铜表面形成保护膜,缓解铜腐蚀,到达一定值(71.1mg·L’1)后,保护膜
受到破坏,缓蚀剂ATA的缓蚀作用随之降低,其中,Cl-浓度为71.1
mg·L。时ATA
缓蚀效果最佳,缓蚀效率达96.62%;ATA(15mg·L以)对铜在不同S2-质量浓度的
模拟水中有一定的缓蚀效果,保持缓蚀剂浓度不变(ATA浓度为15mg·L.1),添加
S2。,缓蚀剂对铜的缓蚀效果随S2‘添加量的增加而降低;(6)ATA(15mg·L。)对铜
在一系列不同温度的模拟水中有一定的缓蚀效果,随着温度的增加,缓蚀剂ATA
对铜的缓蚀效果降低。
(3)ATA对铜在硼砂一硼酸缓冲溶液中有较好的缓蚀效果,电位在负向扫描
过程中产生的阴极光电流峰值明显增大,缓蚀剂浓度越大,光电流越大,缓蚀效
果越好,其中,ATA浓度以30
mg·L.1为最佳,缓蚀效率达90.71%,ATA能自发
地吸附在铜表面,服从Langmuir等温式,是典型的化学吸附;ATA对铜在2
g.LJ
NaCI的硼砂一硼酸缓冲溶液中有较好的缓蚀效果,电位在负向扫描过程中产生的
阴极光电流峰值明显增大,缓蚀剂浓度越大,光电流越大,缓蚀效果越好,其中,
VI
ATA浓度以20
mg·L.。为最佳。
ATA对白铜(B10和B30)的缓蚀研究:
15
mg·Ld为最佳,缓蚀效率达78.75%。
(2)觚A对白铜B10在模拟水溶液中有较好的缓蚀效果,其中,浓度以15
mg·LJ为最佳,缓蚀效率达92.97%。
15mg·L.1为最佳,缓蚀效率达96.85%。
(4)ATA对白铜B30在模拟水溶液中有较好的缓蚀效果,其中,浓度以7.5
mg·L。为最佳,缓蚀效率达95.73%;ATA(7.5mg·L。1)对白铜B30在一系列不同C1.
质量浓度的模拟水中有一定的缓蚀效果,其中,ATA缓蚀效果随Cl。浓度的增大
而降低;ATA(7.5mg·L一)对白铜B30在一系列不同S2-质量浓度的模拟水中有一
定的缓蚀效果,保持缓蚀剂浓度不变(ATA浓度为15mg·L-1),添加S2。,缓蚀剂
对白铜B30的缓蚀效果随S2。添加量的增加而降低,当S2‘浓度达到20
mg.L‘1时,
比空白还低,白铜B30腐蚀加剧,说明缓蚀剂ATA已失去缓蚀效果;ATA(7.5
mg·LJ)对白铜B30在一系列不同质量浓度S042‘的模拟水中有一定的缓蚀效果,
其中,s042。的质量浓度为60.8mg·L。1时,ATA的缓蚀效果最好。
ATA对黄铜的缓蚀研究:
(1)ATA对黄铜在3%NaCI溶液中有较好的缓蚀效果,其中,浓度以7.5
Na2W04复配
mg-U1为最佳,缓蚀效率达87.46%,当7.5mg·L-1ATA与O.15mg·LJ
时,复合缓蚀剂显示最佳的缓蚀协同效应,缓蚀效率达91.82%。
(2)A1队对黄铜在模拟水溶液中有较好的缓蚀效果,其中,浓度以5mg·L-1
为最佳,缓蚀效率达88.73%,当7.5
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