西门子法多晶硅头料利用技术研究.pdfVIP

摘要 摘要 在目前的光伏产业中，占有主导地位的晶体硅太阳能电池的制造需大量的 高纯多晶硅材料。西门子法是生产多晶硅的主流工艺，由于工艺中使用石墨夹 头连接初始硅芯作为硅还原反应沉积基底，产品中存在沾附了石墨的多晶硅碳 头料。最大限度地利用多晶硅碳头料，对降低光伏发电成本有重要意义。本文 报告我们就此开展的技术研究，包括碳头料与石墨间界面结构分析、碳头料与 石墨间剥离方法实验研究，还开展了还原沉积之前的石墨夹头表面涂层材料与 工艺研究，这种涂层需同时具备易剥离、耐高温、高导电、阻止碳污染，不带 来新杂质的复杂性能要求，从而提高碳头料的利用率，甚至实现石墨夹头的二 次利用。 研究结果表明：西门子法多晶硅碳头料中硅料与石墨之间的界面生成了碳 化硅，沉积的硅料镶嵌在石墨孔隙内，导致硅料与石墨的分离困难；浓硫酸与 浓硝酸混合酸处理碳头料能使块体石墨分解，逐渐从碳头料表面脱落，且体积 比为3：1时，效果最佳，但碳头料表面仍有少量石墨与碳化硅的残留；用氢氟 酸与硝酸的混合酸继续浸泡碳头料，可完全去除表面残留石墨与碳化硅。通过 两次酸浸处理，从碳头料中可获得的可用硅料，其硅料的损失量小于10％；在 石墨夹头表面制备的玻璃碳涂层，表面致密平整，导电性良好，是一种较好的 石墨夹头涂层材料。在石墨夹头上制备了碳化硅涂层，可作为涂层材料之一， 此外，根据我们的观察，石墨夹头低温预沉积硅涂层，也可作为一种良好的石 墨夹头涂层候选材料。 关键词：西门子法；多晶硅；碳头料；涂层 ABSTRACT ABSTRACT 111PV siliconsolarcells insolar industry,crystalline cell，which predominate leadtoa demandfor to mainstream huge highpuritypolysilicon．Theprocessproduce isSiemens this the chuckisusedtoconnect polysilicon Process．，inprocess graphite theinitialfilamentsiliconwiththemetalelectrodetoworkasthebasementforthe silicon thereissomesiliconattachedtothe chuck．Tomake deposition，SO graphite fulluseofthis ofsiliconcan toreducethe unit cost part help comprehensiveprice of siliconsolarcells．Inthis we the ofinterface crystalline paperreportanalysis of and methodand to thesiliconfrom also silicon，a graphite processstrip graphite．We the and to