摘 要
过渡金属掺杂的硅基团簇作为~种半导体材料的基元,在微电子技术应用和
新材料设计领域中占有着极为重要的地位。本论文主要运用密度泛函方法对第八
、
族4d过渡金属铑掺杂的硅基混合团簇进行了系统的理论研究,一方面研究了中
子团簇的电子结构和激发态性质。
进行了优化,得到了该团簇一系列稳定的几何和电子结构,并在此基础上讨论
了相对最稳定结构的平均束缚能、分裂能、自然布居、HOMO.LUMO能隙、局
域磁性。结果表明,RhSi。(n=1.6)团簇的相对最稳定结构都基本上保持了sin+1团
簇基态构型的框架,这是由于si—si键相互作用比Rh.Si键相互作用强的结果。
通过计算最稳定构型的束缚能和分裂能,研究了RhSi。(n=1.6)N簇的相对稳定性,
发现RhSia是其中热力学结构相对最稳定的团簇。分析RhSi。(n=1.6)团簇的自然
布居,可知电子主要从si原子的3s轨道和Rh原子的5s轨道向Rh原子的4d
较强,这与它的热力学稳定性最强的结果正好吻合。
为了便于实验上的结果相比较,我们同样在(U)B3LYP/mL2Dz水平上
对RhSi.+和RhSi.团簇的结构和电子性质进行了研究。与中性的RhSi。团簇比较,
大部分的RhSi.+和RhSi.-团簇都基本保持了其原有的结构框架。RhSh+团簇结构
变化相对较大,从中性畸变的四棱锥结构变成“铲子状”结构,这与RhSh+团簇
的绝热电离能(Am)和垂直电离能Ⅳ球)差值最大的结果相吻合。RhSi2团簇结构键
角增大较多,这与ghSi2团簇的绝热亲和能㈣和垂直亲和能㈣差值相对
其它团簇最大的结果是一致的。平均束缚能研究表明,除了RhSh+团簇,所有
RhSi.+和RhSin团簇的平均束缚能都高于与其相应的中性团簇。分裂能研究发现,
团簇中相对最稳定的,说明RhSi3团簇比较适合作为团簇集成材料的构建单元。
遍增大。三条HOMO.LUMO能隙尺寸依赖曲线在n=2处都出现一个明显的
簇的激发态性质进行了初步探讨,发现RhSi.+团簇和RhSi.‘团簇的激发光谱都在
可见光范围内。
关键词:RhSi.团簇,密度泛函理论,相对稳定性,自然布居,最高占据轨道与
最低未占据轨道能隙,激发态。
ll
Abstract
haveattracted
Thetransitionmetalsiliconclusters attention,boththeoretically
area of
metal siliconclusters
and thetransition group
experimentally,becausedoped
clusterwith for inmicroelecronic
importanceapplications
semiconductinggreat
electronic of
andnewmaterialresearch.Structuraland properties
technology design
theneutral and
RhSin+clusters
RhSin(n=1—6)clusters,charged
are functionalmethod.
density
investigatedcomputationallyby
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