离子辅助沉积氧物薄膜的特性分析.pdf

Y 浙江大学硕士论文 689099 摘 要 本论文的主要工作是对常规工艺下和离子铺助条件下沉积薄膜的特性进行 比较研究，研究的薄膜包括单层膜和多层膜。 1、单层膜的研究 研究的单层膜为Si02,T102,Ta205等氧化物介质薄膜，对比研究了常规工 艺下和离子辅助条件下它们的光学特性和机械特性。光学特性沙及折射率、消光 系数、波长漂移和聚集密度，发现离子辅助沉积对单层薄膜的光学特性明显改善。 机械特性涉及薄膜应力，对离子辅助沉积和常规工艺条件下镀制的薄膜应力进行 了试验研究，并对台阶仪测量镀膜前后基板表面的曲率的方法进行了探讨。在基 板温度低于100℃时，在离子辅助工艺条件下镀制的T102薄膜应力略大于常规工 艺条件下得到的应力:随着薄膜厚度的增加，T102薄膜的应力逐渐减小，从125 nm的392MPa下降到488nm的30MPa;离子源阳极电压对薄膜应力影响也较 大，在loov时得到的薄膜应力为164MPa,当电压升高到190