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摘要
锟及镊合金以其熔点离、耐腐蚀秘良好麓离温强度艘为重要的瘩
温结构候选材料。但较差的抗氧化性能,严踅制约其在蕞温上的应用。
针对这一问题,本文选用硅化物作为锅及铌合金的抗氧化涂层。采用
二次熔烧工艺在铌基体上制备了添加元素Ge改性的Si,Cr_Fe硅纯物
涂爱;采用料浆熔烧工艺涮备了怒高溢瓣mSi2涂层;测试了涂层试
样在1200℃,1400℃,1600℃F媳静态抗氧化稠循环挽氧化性能;
显微硬度仪等手段进行了观察和分析,研究了涂层的结构、元素分布、
相分布与抗氧化性能的关系。建立了硅元索在MoSi2涂层与Nb基体
雾碡;发生反应扩敖的数学模型,缝合实验基础对所缛数据进霉亍比较分
析,探讨了铌基体与硅化物涂层的界砸反应特点和规律。通过研究,
得到如下结论:
二次熔烧工艺可以改善si—er~Fe涂层表面缝织均匀性和致密
性,菠过渡瀑宽化,能提高涂层蛉抗氯纯性能。改性元素Ge在涂鬃
中分布不均匀,主要集中在涂层主体层和界面过渡层,能改善涂层的
抗氧化性能,并有效阻止裂纹的扩展。/涂层表现为多层结构,截面显
微硬度成梯度减小,在界面处硬魔变化较大。涂层良好的高温抗氧化
性取决于涂绥表谣状态、涂屡结构、氧纯物层与涂层主体以及基体膨
胀系数差等因素的综合作用。b~一
Mosi
z涂层的高温抗氧化性能比改性s卜cr~Fe涂层好,两者都能
在表面选择氧化形成玻璃氧化物,有自愈能力。料浆中的杂质会破坏
涂鼷表瑟完整性,降低涂层的抗氧亿健箍;涂鼷与基体之闻通过扩散
形成了过渡层,达到了冶金结合,涂屡戆复合结构有剩于提高摭氧化
性能。Mosiz涂层会与铌基体发生互扩散,在界面处形成大量集中孔
洞;热应力使涂层产生横向裂纹,促使涂层从其主体与过渡层接触的
界面处发生横向内部断裂。
提凑了三个基本假设:1)扩数是缓慢酶,整个过程由鸯L散规律
所控制; 2)必须是体扩散,丽不是短路扩鼓;3反应瞬时完成,
即在相界面上始终保持准平衡;结合铌硅二元相图和实验结果,建立
了渤si。涂屡与Nb基体界面硅元素反应扩散的模型。将实验数据与模
接计算结果进行跑较,分析了误差因素,对送一步饼究锯合金表面高
IIr
温抗氧化涂层掇出了参考意见。
关键词:铌,疯温抗氧化涂鼷,改性硅化物,MoSi2,界题扩散
ABSTRACT
materials
are structural
Nb-based temperature
a110ysimportanthigh
of
po巍t,goodp∞群畦ies h逗囊temper鑫主嘴
纛ue奶氆eif量lighme圭专呈藏g
their
resistallce.But islimited
corrosion
atld the印plicabilityby
strength
was
of文贯to silicide
solve凌弧pfoble黼,氇e
po默ox堪a主i黼pfope蛀ies。ln
as也e oxidationresistance for
used coating
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