电容式rf开关靠性的研究及其测试系统的开发.pdfVIP

摘要 进入21世纪以来，通信技术得到了迅猛的发展，其中无线通讯技术更是日新月异。由传统器件组成 的无线通信系统，无法满足低功耗、高隔离度、低损耗的现代无线通信要求。为此，人们越来越多的将目 光投入到RFMEMS器件上，RFMEMS技术因此得到了长足的发展。自从RFMEMS开关研制成功之后， 国外众多的学者对RFMEMS开关的可靠性展开了详细的研究。根据现有的研究结果，静电驱动的接触式 开关主要的可靠性问题体现为接触电阻问题；而静电驱动并联电容式开关主要问题是介质层电荷注入以及 衬底电荷注入问题。 MEMS开关的基本概念及应用，并对电容式开关电荷注入问题的研究现状 本文首先简要的介绍了RF 进行了综述。本文力图从基本原理入手对介质层电荷注入作出合理的理解；同时对国际上研究的新方向一 一衬底电荷注入，通过设计实验，以期给出当开关处于DOWN态时衬底电荷注入与介质层电荷注入之间 的量化关系：最后对样品的介质层电荷注入特性进行了研究。在借鉴已有的各种测试系统的前提下，本文 借助于实验室国际领先的半导体参数测试仪以及LDV多普勒激光测试系统，分别搭建了电流测试系统以 及开关吸合电压测试系统，顺利地完成了预期的实验。 本文对获取的实验结果