積體電路晶圓製造工業水資源之利用及污染防治之探討Water.PDFVIP

東海大學環境科學研究所 碩士論文（初稿） 積體電路晶圓製造工業水資源之利用 及污染防治之探討 Water Conservation and Pollution Prevention in the Wafer Fabrication Industry 研 究 生：顏佳新 指導教授：郭茂松 博士 88.7.8 摘要 半導體製造業是指從事半導體積體電路 （ 設計） 、 IC 晶圓材料 製作、積體電路晶圓 製造、光罩製造、導線架 製造及晶粒切割 、封裝 、測試 等作業。其中，以積體電 路晶圓製造最為複雜，所引起的環境問題也愈來愈受重 化 視。積體電路晶圓製程包括使用氧化 （ ）、 Oxidation 學氣相沉積 （ ）和物理氣相沈 Chemical Vapor Deposition 積 （Physical Vapor Deposition ）等製程，在矽晶圓上長 出或沈積多層不同的薄膜（ ），利用微影 製程 Thin Films （ ）將光罩上的圖案轉移至各薄膜層 Photolithography 利 上，經由蝕刻 製程（Etching ）產生所要之線路圖形， 用 離子植入 （ ）或擴散 製程（ ） Ion Implantation Diffusion 植入雜質（Dopants ）於矽底材內以增加導電性。 摘要（續） 積體電路晶圓製造業的用水量大，主要使用於 製 程用水 、空調用水及廢氣洗滌塔 等設施。在製程中， 使用多種的化學品並產生許多對環境造成影響之氣 體、液體及固體廢棄物，包括 有機溶劑 、全氟化物 、 酸鹼 、氟化物 及砷 等。由於台灣水資源缺乏、 環保意 識高漲及環保法規日趨嚴格，如何 有效利用水資源 ， 及 妥善處理所產生之污染物 ，乃是晶圓製造工業所必 須面臨的問題。 本篇乃針對目前積體電路晶圓製造業對於水資源 利用及對污染防治情形所得之研究結果，包括晶圓廠 水資源利用 狀況、使用化學品