光刻机技术及其在微纳超精密制造领域的应用.pptVIP

2、光刻技术的应用领域 * 光刻机是微纳超精密结构制造的核心机床 光刻机的工作原理跟照相机类似，将设计的结构图形大规模的转印复制在基板上 光刻机是一个信息传递系统，传输信息，也是一个能量传输系统，复制记录信息 信息传递的保真度就是分辨率能力，信息的传输速度就是生产率，这两个指标属性，决定了不同类型光刻机的应用领域 相比于微米级分辨率的传统机械加工制造手段而言，其制造过程是空间顺序加工的过程，光刻加工过程是纳米级分辨率的空间并行加工过程，同时具备高空间分辨率和高信息传输速度的属性，可同时实现极高精度和极高产率 现代及未来对纳米尺度结构的大规模制造，光刻技术是最具经济价值的大规模先进制造手段，也是自上而下制造的唯一手段 集成电路制造工厂是目前人类最为先进和复杂的制造工厂，建造一座12寸集成电路工厂，投资需要100亿美元 * More Moore 领域：集成电路发展历程与Moore 定律高度吻合 光刻机技术的革新与进步始终是核心驱动力 杰克.基尔比1958年在德州仪器公司用接触光刻机制造的第一个集成电路，只有50个单元，用了一秒钟时间 * Martin Van den Brink，ASML ，Nov，2014 243 249 ghi谱线 ghi谱线 g436nm i365nm KrF248nm ArF193nm ArFi NA1 EUV13.5nm 光刻机技术的进步：世界得到的好处 * Gartnar：high quality flash 近50年来，半导体产品和半导体赋能的产品，在当今世界高品质生活的各个方面，无所不在的扮演着总成的作用。 近20年里，全球经济增长的40%可以归功于Moore定律，集成电路的大规模制造是核心驱动力 More Moore领域：IC产品不同节点的光刻技术 * Martin Van den Brink，ASML ， Dublin meeting， Nov，2014 2015年半导体、终端设备、全社会总销售 * 现有集成电路光刻技术的市场组成 * 半导体和泛半导体领域的产值，核心驱动都是光刻技术 * More Than Moore领域：汽车电子 * More Than Moore 领域：汽车电子、消费电子、物联网 * Bosch Sensortec Leopold Beer ，Oct，2015 Bosch MEMS产量：50亿块 * Bosch Sensortec Leopold Beer ，Oct，2015 Bosch MEMS显微图 * Bosch Sensortec Leopold Beer ，Oct，2015 平板显示领域：光刻机同样是核心制造装备 * 平板显示器领域光刻机的应用 * SMEE SMEE SMEE confidential SMEE SMEE NDA CONFIDENTIAL NDA CONFIDENTIAL 中电科电子装备有限公司 Electronics Equipment Co.,Ltd. 光刻机技术及其在微纳超精密制造领域的应用 程建瑞 上海微电子装备有限公司 中国电子科技集团公司 2015，10，18 上海微电装备有限公司的光刻机产品 * 600 Series IC Front-End 500 Series IC Back-End 300 Series LED/MEMS 200 Series TFT-OLED Laser Annealing Series IC/IGBT Interferometer Series Position Measuring Bonding Series IC Back-End/MEMS Company Profile — Products Temperature Series for Semiconductor/Optics/Medicine industry 集成电路光刻机 * Light Source ArF Excimer Laser Resolution 90nm or better Overlay ≤12nm NA 0.75 FoV 26mm x 33mm Wafer 200mm or 300mm Light Source i line Resolution 280nm or better Overlay ≤30nm NA 0.65 FoV 26mm x 33mm Wafer 200mm or 300mm Light Source KrF Excimer Laser Resolution 110nm or better Overlay ≤15nm NA 0.85 FoV 26mm x 33mm Wafer 200mm or 300mm SSC600/10 KrF Step-and-Scan System SSA600