等离子体增强化学气相沉积类金刚石薄膜研析.pdfVIP

摘要 摘 要 类金刚石(DLC)薄膜具有优异的物理、化学性能，如高硬度、低摩擦系数、优良的 耐磨性、在红外波段的透过性、化学惰性和生物相容性等，使它们在诸如真空微电子学、 摩擦学、光电子学、声学、医学材料，直至工业包装、装潢装饰业等领域有巨大的应用 潜力；而且与金刚石薄膜的制备相比而言，DLC薄膜具有制备方法简单、快捷和成本低、 易于工业化推广的优点，即性能价格比较高。因此受到人们愈来愈多的关注。 本文使用了电感耦合等离子体增强化学气相沉积(IC—PECVD)方法和介质阻挡等离 为放电气体，硅片为基底，通过红外光谱分析了DLC薄膜的成分，使用原子力显微镜(AFM) 研究了薄膜的表面形貌和硬度，使用台阶仪测量了薄膜的厚度，得出了沉积速率；研究 了不同生长条件对所合成的薄膜的微结构、表面形貌、沉积速率以及对薄膜的力学性能 的影响。 方法沉积DLC薄膜，以CH4为放电气体沉积的薄膜同等条件下，粗糙度比另外两种气体 电腔体中的不同位置，沉积的薄膜的性能随沉积条件的变化规律不一致：对于DBD—PECVD 法沉积DLC薄膜，不同的放电气体沉积的薄膜的性能随沉积条件的变化规律也不一致。 关键词：等离子体增强化学气相