尖晶石型铝酸盐体水热法制备及其可见光催化性能的研究.pdfVIP

摘 要 摘 要 光催化氧化技术是指利用半导体光催化剂、通过光作用氧化降解水和空气中的有机 污染物的技术。它具有效率高、操作条件易控制、非选择性氧化、无二次污染等突出特 点，为有机污染物的工业化处理提供了新的途径，有着广阔的应用前景。目前常用的半 导体光催化剂(如Ti02)通常带隙较宽，仅在紫外光范围内有响应，难以实现有效地转化 和利用太阳能，光催化降解效率较低。因此研制新型的可见光响应半导体光催化材料f如 尖晶石型AB204光催化剂)，成为光催化材料重要的研究热点。 Uv．vis DRS等测试手段对三种尖晶石型光催化剂的晶型结构、表面形貌和光吸收响应范 围进行了分析。并以其为光催化剂对三种水溶性染料(甲基橙、活性艳红K．2G、酸性红 B)进行可见光催化降解实验，以染料的降解脱色率和COD去除率对样品的可见光催化 活性进行表征。对由水热法制备的光催化活性较好的ZnAl204进行了重点研究，并讨论 了水热反应条件及催化剂的用量对其光催化性能的影响。 性能，催化降解2h后三种染料溶液的降解脱色率和COD去除率均可达到80％和50％ 以上。从N位离子半径、d电子数以及禁带宽度等角度解释了三种样品的光催化活性存 的光催化活性影n向较大，反应温度为245℃、pH值为10时所制得样品对甲基橙溶液的 催化降解效果最佳，光照2h的降解脱色率均达到90％以上；而水热反应时问对样品的 光催化活性的影响并不十分显著，随着水热反应时间的延长，样品对甲基橙溶液的降解 脱色率变化不大；同时考虑光催化剂的用量对其光催化性能的影响，确定ZnAl204光催 化剂的用量为2∥L时其达到最佳的光催化降解效果。 关键词：光催化，尖晶石，水热法，带隙，染料 Abstract Abstract oxidationisa forremovalof from andair Photocatalytic technique pollutantsaqueous stream thesemiconductors Can new byusing photocatalyst．Its methodsforthe provide industrializedtreatmentof andhas usedbecauseof organicpollutionswidely high—efficiency, controlled conditions，non—selective easily operation degradation，nosecondarypollution．At semiconductor wideband are present，the photocatalysts(1ikeTi02)with gap merely ultraviolet isdifficultto transformandutilization responded spectrum．It accomplishavailably ofsolar anewvisable semiconductor energy．Sodeveloping lightresponse photocatalysts anewresearchfulhot about research． AB204)becomes (spinel—type spot photocataly