磁控溅射制备类刚石（DLC）薄膜及其结构和性能研究.pdfVIP

磁控溅射制备类金刚石(DLC)薄膜及其结构和性能研究 摘要 类金刚石(Diamond．1ikecarbon，简称DLC)薄膜是一种非晶碳膜，薄膜 中含有一定数量的sp3键，使得其具有一系列接近于金刚石的优异性能。加之其 沉积温度低，可以大面积沉积等优点，一直来都是人们广泛研究的对象。 本文的第一章简要综述了DLC薄膜的结构和相关的性能，介绍了类金刚石 薄膜的研究背景和意义；综述了薄膜的制备方法和薄膜的应用。 第二章给出了本文中DLC薄膜的制备方法和工艺，利用DLC薄膜电阻率 与工艺参数的间接关系，研究了磁控溅射制膜的工艺。随工作气压的增大薄膜电 阻率先增大后减小，薄膜中sp3杂化碳原子含量随工作气压的增大而先增后减； 随着靶的溅射功率提高，薄膜电阻率也是先增后减，薄膜中sp3杂化碳原子含量 随着溅射功率增大而先增后减；基片直流负偏压的增加薄膜电阻率增大，薄膜的 sp3含量随着直流偏压增加而增大。 了薄膜的形貌；分析得出薄膜含有相当量的sp3杂化碳原子，射频DLC薄膜中 ∥含量高于直流DLC薄膜。研究不同直流溅射气压下制备的DLC薄膜的Raman 谱发现薄膜中sp3含量是随着工作气压的增大先增加后降低。形貌分析得出薄膜 致密、平整，膜基结合紧，射频磁控溅射制备的DLC薄膜表面粗糙度低于直流 磁控溅射制备的DLC薄膜，射频DLC薄膜质量优于直流DLC薄膜。 DLC层具有典型的类金刚石结构。SEM表明多层膜层与层之间的结合非常致密， 过渡平滑。利用Jomson和Hogmark理论公式从薄膜的显微硬度中分离出薄膜本 征硬度，研究表明薄膜的硬度可达30GPa以上。 第五章介绍了CNx出现的背景，以及目前研究的进展。利用射频反应磁控 溅射制备出CNx膜，通过Raman光谱分析表明薄膜是典型的类金刚石膜。XPS 分析研究了薄膜的结构，分析发现薄膜中含有C=C／C--C键、c—N键、C=N 键、N-=C键、C—O键。 关键词：类金刚石薄膜，磁控溅射，Raman光谱，XPS，电阻率，显微硬度 and Films ofDLCThin PreparationProperties byMagnetron Sputtering Abstract containcertainnumber Diamond-likecarboniS carbonfilms．Filmsa amorphous to of containsaseriesofexcellent closerthediamond．It bonds，which sp3 properties has oflow and ithasbeen depositionarea,SO advantagedepositiontempcmmrelarge studied． widely Thefirst isabriefoverviewoftheDLCfilmsrelatedtothestnletUreand chapter theDLCfilms’research andthefilms properties．Introduce background，significance preparationmethods，applicatiom IIofthis describesDLC methodsan