FeCl3-HCl体系紫铜化学抛光工艺的探讨.pdfVIP

维普资讯 薯26卷 第3期 V_ol-26 No．3 【工艺开发】 FeCI3-HCI体系紫铜化学抛光工艺的探讨 张忠诚 ，井涛，付莹莹，熊丽君 (山东大学化学与化工学院，山东 济南 250061) 摘 要：研究了紫铜在 FeC13一HC1微酸性体系中化学抛光的工 popularizeduetoitsadvantagesofsimpleoperation，high 艺。介绍了该化学抛光工艺的流程及各前，后处理工序的配方。 speed，goodbrighntessandlow conatmination、 通过筛选 实验 ，确定抛光液 中光亮剂为脂肪醇聚氧 乙烯醚 Keywords：redcopper；chemicalpolishnigprocess；brightener； (AEO．9)，辅助光亮剂为乙醇，缓蚀剂为苯并三氮唑 (BTA o inhibitor；orthogonalexperiment；ferricchloride；AEO一9：BTA 采用正交试验，得到最佳化学抛光液配方为：每 100mL抛光液 First-author’saddress：SchoolofChemistrynadChemical 中含 8gFeC11，8mL盐酸，0．1mLAEO．9，0、2gBTA，1．2mL Engineering，ShandongUniversity,Jinan250061，China 乙醇。最佳抛光温度为 30。C左右。根据正交试验结果，讨论 了抛光液组成及温度对抛光效果的影响。各因素对抛光效果的 影响作用由大到小依次为：抛光液温度 FeC1质量浓度 1 前言 AEO．9体积分数或BTA质量浓度 乙醇体积分数 盐酸体积分 数。该工艺操作简单，抛光速度快，效果好，低污染，易于推广。 自20世纪 50年代以来，化学抛光法 【】在紫铜 (即 关键词：紫铜；化学抛光工艺；光亮剂；缓蚀剂；正交试验； 纯铜)、黄铜 (即铜锌合金)、铝、铁和其他金属的表 FeC13；AEO-9：BTA 面处理方面起了举足轻重的作用。目前，用于铜及其 中图分类号：TG146．11；TG175．3 文献标识码：A 合金的化学抛光法按所用氧化剂可分为 3大类：(1) 文章编号：1004—227X(2007)03—0009—05 Chemicalpofishingtechnologyofcopperinasolution 硝酸及其盐系列，(2)铬酸盐系列，(3)过氧化氢系 basedonFeChandHCI∥ ZHANGZhong—cheng，JING 列。硝酸及其盐系列在抛光过程 中易产生大量的氮氧 Tap，FUYing—ying，XIONGLi-jun 化合物，污染环境，对人体有害：铬酸盐系列的成本 Abstract：Aprocessforchemicalpolishingofredcopperin 及废水处理费用高，有 Cr(VI)污染问题；过氧化氢系 aweaklyacidFeC11一HClbathwasstudied．Thepolishing processflowandtheformulationsofpre．．andpost．．treatments 列在贮存和使用时性能不够稳定。基于以上原因，开 wereintroduced．ApolishingbathwithAEO一9(aliphatic 发新型铜及其合金抛光体系具有实际意义。经过大量 alcoholpolyehtyleneoxideehter)asbrightener,ehtanolas 实验，得到了以FeC13为氧化剂的新型抛光体系，即 auxiliarybrightenerandbenzot