电沉积方式对制备氧化锌薄膜的影响.pdfVIP

2015年9月 电镀 与 精 饰 第37卷第9期(总270期) ·7· doi：10．3969／j．isSB．1001—3849．2015．09．002 电沉积方式对制备氧化锌薄膜的影响 彭友舜 ， 王晓娟 ， 张丽茜 ， 秦秀娟 (1．河北科技师范学院 化学工程学院，河北 秦皇岛 066004；2．燕山大学 环境与化学工程学院，河 北 秦皇岛 066004) 摘要：利用恒电位与恒电流两种电沉积方式，在Zn(NO)水溶液中制备了ZnO薄膜，研究了沉积 方式对氧化锌薄膜性能的影响。实验结果表明，电沉积的初始阶段即氧化锌种子层生成期，对沉积 有很大影响；恒电流沉积的氧化锌种子层生成迅速且致密，制备的薄膜表面粗糙度小且透光率高； 荧光光谱表明，采用不同沉积方式制备ZnO薄膜的内部缺陷不同。 关 键 词：电化学沉积；氧化锌薄膜；恒电流；恒 电位 中图分类号 ：TQ153．17 文献标识码 ：A InfluencesofDepositionM odesonZnO FilmsPrepared byElectro-deposition PENGYoushun，WANGXiaojuan，ZHANGLiqian，QINXiujuan (1．SchoolofChemicalEngineering，HebeiNormalUniversityofScienceandTechnology，Qinhuangdao 066004，China；2．CollegeofEnvironmentandChemicalEngineering，YanshanUniversity，Qinhuangdao 066004，China) Abstract：ZnO filmswerepreparedthroughelectro—depositionfrom aqueouszincnitratesolutionbyusing twodepositionmodesofconstantpotentialandconstantcurrent，andinfluencesofthedepositionmodeson thepropertiesofZnO filmswerestudied．Experimentalresultsindicatedthatin initialperiodoftheelec— tro-deposition，namelyofgenerationperiodofZnO seed layer，depositionmodeshadgreatinfluenceson theZnO films：byusingconstantcurrentmode，theZnO seed layergeneratedquicklyanddensely，the preparedthinfilm surfacehadlowroughnessandhighlighttransmittance：PLspectrashowedthattheZnO filmspreparedbydifferentdepositionmodeshaddifferentintrinsicdefects． Keyword：electro—deposition；ZnO film；constantcurrent；constantpotential 性、无毒等优点，使其在光电、压电、光催化及太阳 引 言 能电池等领域有广阔的应用前景，因而成为当前材 ZnO是一种典型的 Ⅱ～Ⅵ族直接带隙宽禁带半 料研究的热点。 导体，室温下带宽为 3．37eV，激子结合能高达 制备ZnO薄膜常用的方法有磁控溅射法 ¨ 、 60meV，室温下能观察到ZnO的紫外发射。ZnO半 溶胶．凝胶 (Sol—Ge1)法 J、化学气相沉积 (CVD) 导体材料具有较宽的带隙宽度、较高的