TiO2薄膜的LPCVD法制备、表征及光催化性能.pdfVIP

· 28 · 材料导报 B：研究篇 2013年 4月(下)第 27卷第4期 TiO2薄膜的LPCVD法制备、表征及光催化性能 梁 建，马淑芳，赵君芙，许并社 (太原理工大学材料科学与工程学院，教育部界面科学与工程重点实验室，太原030024) 摘要 采用简单易行的低压化 学气相沉积法 (LPCVD)在 GaAs、Si和玻璃衬底上沉积 了Ti()2薄膜，通过 HRXRD、FESEM、EDS等手段对薄膜进行表征，结果表明基片对薄膜的晶相和微观形貌有明显的影响。薄膜的光催 化实验结果显示，在可见光的照射下，分解甲基橙溶液时，砷化镓基和硅基TiO2薄膜表现 出更强的光催化活性。并 探讨了基片对薄膜晶相、微观形貌、光催化活性的影响。 关键词 低压化学气相沉积 TiO2薄膜 表面形貌 光催化 中图分类号：TQ426．2；TB43 文献标识码 ：A Preparation，Characterization，andPhotocatalysisPropertyof Ti02FilmsGrownbyLPCVD IdANGJian，MA Shufang，ZHAOJunfu，XUBingshe (KeyLaboratoryofInterfaceScienceandEngineeringinAdvancedMaterialsofMinistryofEducation，Collegeof MaterialsScienceandEngineering，TaiyuanUniversityofTechnology，Taiyuan030024) Abstract Titanium dioxidethinfilmsweregrew onGaAs，Si，andglasssubstratesbylow pressurechemical vapordeposition (LPCVD)．ThethreefilmswerecharacterizedbyhighresoiutionX-raydiffraction (HRXRD)，field emissionscanning electronmicroscopy (FESEM )and energy dispersiveX-rayspectroscopy (EDS)．Theresults showedthatthesubstratetypehadobviouseffectoncrystallinestructuresand surfacemorphologiesofTiO2films． PhotocatalysistestresultsshowedtheTiOzfilmsdepositedonGaAsandSisubstratehadenhancedphotocatalyticac— tivitiesforthedegradationofmethylorangeundervisiblelightirradiationcomparedwiththeTi08filmsdepositedon glasssubstrates．Theinfluencesofsubstratetypeonthecrystalmorphology，microstructure，photocatalysisproperty 0fTi02filmswerediscussedindetail． Keywords low pressurechemicalvapordeposition，TiO8film，surfacemorphology，photocatalysis 备方法很多，主要有液相法_7，、气相沉积法_9 、电化学方 0 引言 法[1妇等，不同方法得到的薄膜成分、结构、附着力、厚度、催化 1972年Fujishima等口]发现受辐射的TiO 电极表面