01电池生产工艺.pptVIP

工艺卫生 1。此道工序的工艺卫生在金属离子和油污方面和前清洗相似。 2。水痕的问题，硅片在经过清洗之后一定要彻底烘干以后才能做PECVD，不然会出现明显的水痕迹。 PECVD镀氮化硅（SiN）薄膜 电池 电池 PECVD镀SiN薄膜的目的： SiN薄膜作为减反射膜可减小入射光的反射； 在SiN薄膜的沉积过程中，反应产物氢原子进入到SiN薄膜内以及硅片内，起到了钝化缺陷的作用。 PECVD镀氮化硅（SiN）薄膜 太阳电池表面的深蓝色SiN薄膜 PECVD镀氮化硅（SiN）薄膜 电池 电池 SiN薄膜的物理性质和化学性质： 结构致密，硬度大 能抵御碱金属离子的侵蚀 介电强度高 耐湿性好 耐一般的酸碱，除HF和热H3PO4 PECVD镀氮化硅（SiN）薄膜 电池 SiN薄膜的优点 优良的表面钝化效果 高效的光学减反射性能（厚度和折射率匹配） 低温工艺（有效降低成本） 含氢SiNx:H可以对mc-Si提供体钝化 PECVD镀氮化硅（SiN）薄膜 入射光在SiN薄膜表面发生一次反射，在SiN薄膜和硅片界面发生第二次反射，通过适当选取SiN薄膜的厚度和折射率，可以使一次反射光和二次反射光相抵消，从而减小了反射。沉积SiN减反射膜后，硅片表面对入射光的平均反射率可进一步减小到5%左右。 PECVD镀氮化硅（SiN）薄膜 电池 电池 PECVD：