扫描电镜SEM培训内容要点.pptVIP

JMS-6510A钨灯丝扫描电镜 培训内容 SEM+EDS原理 SEM样品制备要求 SEM+EDS使用方法步骤 SEM+EDS使用注意事项 SEM原理 电子-试样相互作用 二次电子 背散射电子 X射线 SEM与EDS一体化 表面形貌 组成 元素 二次电子(SE)像—形貌衬度 二次电子是被入射电子轰击出的原子的核外电子。 特点：能量小于 50eV ，在样品中的平均自由程只有10～100nm； 二次电子的多少依赖于入射束与试样表面法线间的夹角a , a大， 二次电子多。 二次电子成像特点： 主要反映样品表面10 nm左右的形貌特征，像的衬度是形貌衬度，衬度的形成主要取于样品表面相对于入射电子束的倾角。 二次电子像分辨率高、无明显阴影效应、场深大、立体感强，是扫描电镜的主要成像方式，特别适用于粗糙样品表面的形貌观察。 SEM原理 背散射电子(BSE)像—原子序数衬度 背散射电子是由样品反射出来的初次电子。 特点：能量高，从50eV到接近入射电子的能量，可从样品中较深的区域逸出(微米级)，被散射电子发射系数η随原子序数Z的增大而增加。 背散射电子成像特点： 主要反映样品表面的成分特征，即样品平均原子序数Z大的部位产生较强的背散射电子信号，形成较亮的区域；而平均原子序数较低