陶瓷硬质薄膜的微结构和力学性能的研究.pdfVIP

摘要 ／’ f现代科学技术的迅速发展，对材料提出了愈来愈苛刻的性能要求．在材料的诸多 性能中，硬度是其最重要、最基本的性能指标之一．超硬材料的合成及其性质的研究， 一直是凝聚态物理和材料科学研究的重点之一．对硬质薄膜的研究主要集中在本征硬 质薄膜、多元化合物硬质薄膜、纳米陶瓷多层膜和纳米混合薄膜几个重要的方向。广、一一 本文利用反应磁控溅射技术，在不同的工艺条件(沉积温度、反应气体分压和基 分、相结构、微观结构和生长形貌等，并利用显微力学探针测量了薄膜的硬度和弹性 ／ 模量等力学性质．(结果表明： L 1．采用磁控溅射法，在基片温度为室温时制备的B4C薄膜呈非晶结构，基片温度提 小幅度提高到高温下的50．4GPa。 2． 采用磁控溅射法，随N2分压的改变，可以制备不同氮含量的CrN。薄膜，且薄膜 的沉积速率，化学成分、相组成以及相应的力学性能均随N2分压的改变而改变。 能，且具有较高的沉积速率。在高N2分压的反应溅射法可制备CrN薄膜，但沉 3 采用磁控溅射技术，在不同的N2分压下可以制备出不同氮含量的NbN薄膜，且 薄膜的沉积速率、化学成分，微观结构和以及相应的力学性能都随分压而变化。 采用磁控溅射法制备出的具有面心立方结构的NbN薄膜具有较高的硬度 的硬质涂层材料。混合有B—Nb。N和六方结构NbN相的薄膜，硬度和弹性模量比 单相面心立方NbN薄膜的硬度和弹性模量较低。 4．采用反应磁控溅射技术，制备了Nb—si-N复合薄膜，结果表明，si元素的加入细 化了晶粒，并且在晶粒内形成了一种调制结构，使薄膜硬度从36GPa升高到 、 53GPa，而且提高了薄膜的弹性模量和弹性回复率等力学性能。厂y一～ 膜；微结构；力学性能 II ABSTRACT the ofmatesials been for strictdemandshave andmore More proposedproperties and these withthe ofmodemsciencetechnology．Amongproperties， development and aresubstantialandof mechanical suchashardnessmodulus great properties of and of materialshasbeena research importance．Thesynthesispropertiessuperhard on focusofsolid andmaterialscience．Thisworkis concentrated physics mainly hard hard and films，cer