断层解剖学绪论及选择性脑断面解剖.pptVIP

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  • 2016-11-10 发布于天津
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断层解剖学绪论及选择性脑断面解剖.ppt

断层解剖学绪论及选择性脑断面解剖

何宇红 主讲 人体解剖学教研室 sectional anatomy 绪 论 一.定义和特点: 用断层方法研究人体形态结构及其相关功能的科学。 在机体结构于原位的状态下,准确地显示其断面形态变化及位置关系;经连续断层或借助计算机进行结构的三维重建和定量分析;属于边缘学科。 二.常用的研究方法 1.冰冻切片技术(cryotomy) 选材、固定、X线标记、画线、冰冻、切锯; 2.生物塑化技术(plastination) 固定、脱水、真空浸渍、硬化处理; 3.电子计算机图像三维重建(computer aided 3-dimension reconstruction) 4.激光共聚焦技术 5.超声成像 6.X线计算机断层成像 7.磁共振成像 8.单光子发射计算机断层显像 9.正电子发射计算机断层显像 三.发展前景 1.影像断层解剖学研究 2.显微断层解剖学研究 3.实验断层解剖学研究 4.发育断层解剖学研究 四.常用术语 1.断层或断面(section): 根据研究目的,沿某一方向所作的具有一定厚度的切片或扫描,即断层标本或断层图像; 断面是指断层标本的表面。 2.横断面:水平面 一般观测其下表面。 3.矢状面: 一般观测其左表面,超声观测其右表面。 4.冠状面:额状面 一般观测其前表面。 5.? 回声:  无回声:黑影-血液、胆汁、尿、羊水、腹水、巨块型癌、肾实质和脾;  低回声-灰影;  强回声: 较强回声:灰白影,癌、肌瘤及血管瘤; 强回声:白影:骨质、结石、钙化; 极强回声:强光带-含气的肺、胃肠。 6.CT值:用组织对X线的吸收系数平说明其密度高低的程度。吸收系数转换成CT值,Hu,是相对值,水为0 Hu,骨密质为+1000 Hu,空气为-1000 Hu。 7.空间分辨力和密度分辨力 8.窗位和窗宽 选择性脑断面解剖 一.??头部断层解剖学常用基线 1.?上眶耳线(supraobitometal line,  SML):眶上缘至外耳道中点的连线。经该线平面约与颅底平面一致,有利于显示颅后窝结构及减少颅骨伪影。  2.??Reid基线(Reid’s base line,RBL):下眶耳线,为眶下缘至外耳道中点的连线。  头部横断层标本的制作多以此线为准。 3.?眦耳线(canthomeatal line, CML)或称眶耳线(orbito meatal line,OML):外眦与外耳道中点的连线。 颅脑横断层扫描多以此为基线。 实际工作中,依检查目的的不同使扫描平面与CML向上或向下成0~20o角。 4.?连合间线(intercommissural line):为前连合后缘中点至后连合前缘中点的连线,又称AC-PC线。  脑立体定位断层解剖研究多以此为基线。 二.脑的沟回在断面上的识别 1.中央沟:端脑上部横断面上最深的一条脑沟,依以下五点可准确辨认。 (1)大部分(87%)中央沟为一不被中断的沟; (2)中央沟较深,均自脑断面外缘约中份处向后延伸,并可有一条(中央后沟)或两条(中央前、后沟)与之伴行; (3)一般中央前回厚于中央后回; (4)先通过位于大脑半球内侧面的扣带沟缘支辨认出中央旁小叶,再进一步辨认中央沟; (5)大脑白质的髓型有助于辨认中央沟。 2.顶枕沟:端脑中部横断面上,胼胝体后钳后方最深的脑沟,从大脑半球内侧面斜向外。沟内有沟,沟内有回。分隔顶叶(楔前叶)和枕叶(楔叶)。 3.外侧沟:分垂直部和水平部,端脑中部横断面上岛叶与颞叶之间,颞叶与额叶或顶叶之间。 2 经大脑上静脉 1.上矢状窦  2.额上回 3.额中回 4.中央前回 5.中央后回 6.大脑上静脉 7.上矢状窦 8.中央沟 9.额上沟 10.大脑镰 3 经额叶和顶叶 1.额上回 2.额中回 3.中央前回 4.中央后回 5.顶上小叶 6.中央后沟 7.中央旁沟 8.中央沟 9.额上沟 4 经扣带沟稍上方平面 1.额上回 2.额中回 3.额下回 4.中央前回 5.中央后回 6.顶上小叶 7.中央旁小叶 8.中央沟 9.中央前沟 5 经扣带沟 1.额上回 2.额中回 3.额下回 4.中央前回 5.中央后回 6.顶上小叶 7.楔前叶 8.扣带回 9.扣带沟 10.中央沟 11.中央后沟 6 经胼胝体上份 1.额窦  2.额内侧回 3.扣带回 4.侧脑室 5.尾状核 6.顶下沟 7.顶枕沟 8.楔叶 9.楔前叶 10.顶下小叶 11.角回 12.缘

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