计算机图形学基础分析报告.ppt

小结--计算机图形处理和显示的基本过程 小结--计算机图形处理和显示的基本过程 小结--计算机图形处理和显示的基本过程 光照处理的基本算法 弯曲表面物体，可以用其曲面方程算出每点的法线，然后按光照强度的计算模型计算每一点的亮度进行表达 问题：1. 运算量相当大 2. 很多曲面无法用合适的方程表示 通常仍然用多面体来逼近的方法模拟曲面物体 平面多面体表面上各点亮度计算通常用二种基本算法: 1．恒定亮度法 2．Gouraud插值法 整个多边形只算出一个单独的亮度值，用这个亮度显示物体上多边形所在的那个面 这种方法只适合在特定条件: 1. 考虑点光源照射时，总假定点光源和观察点离物体表面足够远 2. 物体表面仅暴露于背景光下，没有表面图案、纹理或者阴影时，才会产生准确的结果 阴影的处理 阴影是由于物体遮挡光源的光线而形成的，有助于显示画面中各物体之间的空间位置及深度关系，使人感到物体的远近深浅，极大增加画面的真实感。 阴影一般由两部分组成：本影和半影 本 半 区 影 区 影 区 影 无 光源 本影：任何光线都照不到的区域，呈现为全黑的、轮廓分明的区域 半影： 可接收到分布光源照射的部分光线的区域，通常位于本影周围，呈现为半明半暗的区域，受到的光照依次增加 自身阴影和投射阴影 本影包括两类：自身阴影和投射阴影 自身阴影：由于物体自身遮挡而使光线照射不到的某些面，它与视点在光源位置时的自隐藏面一致。 投射阴影：物体遮挡光线从而使画面中位于它后面的物体或区域（如基平面）的全部或一部分受不到光的照射而形成。 自身阴影 投射阴影 自身阴影和投射阴影 本影包括两类：自身阴影和投射阴影 自身阴影：由于物体自身遮挡而使光线照射不到的某些面，它与视点在光源位置时的自隐藏面一致 投射阴影：物体遮挡光线从而使画面中位于它后面的物体或区域（如基平面）的全部或一部分受不到光的照射而形成 自身阴影 投射阴影 Page end Step1: 分析客观对象 Step2: 建立用户坐标系 Page end Step3: 对图形进行几何变换，选取用户感兴趣的图形方位 Step4: 根据设计需要，建立图形窗口 Page end Step5: 将裁剪后的图形在计算机屏幕中的图形视区中进行显示 Step5: 根据窗口对图形进行裁剪 即使1024×1024分辨率视图被细分10次后，也能使每个子窗口覆盖一个像素 坐标系统 从定义一个零件的几何外形到图形设备上生成相应图形，通常需要建立相应的坐标系统来描述，并通过坐标变换来实现图形的表达。 人为规定的假想设备坐标系，与设备无关。 规格化设备坐标系坐标轴方向及原点与设备坐标系相同，但其最大工作范围的坐标值规范化为1 既定图形输出设备的规格化设备坐标系与设备坐标系相差一个固定倍数，即相差该设备的分辨率。 图形软件与图形设备隔离开，增加了图形软件的可移植性。 设备坐标系（DC） 规格化设备坐标系（NDC） 世界坐标系（WC） 观察坐标系 窗口－视区变换 窗口：用户坐标系（世界坐标系）中定义的确定显示内容 的一个矩形区域 工程设计中，需要突出图形的某一部分而用一个局部视图单独画出来。改变窗口的大小、位置和比例，用户可以方便地观察局部图形，控制图形的大小 用矩形左下角点坐标（XW1，YW1）和右上角点坐标（XW2，YW2）确定窗口的大小和位置，在这个区域内的图形在设备坐标系下输出，窗口外的部分则被裁掉 （XW1，YW1） （XW2，YW2） 视区：设备坐标系（通常是图形显示器）中定义的一个用于输出所要显示的图形和文字的矩形区域 若将窗口中的图形显示在屏幕视区范围内，则视区决定了窗口内的图形在屏幕上显示的位置和大小 一个屏幕上定义四个视区，同时输出一个鼠标的三视图和轴测图。 窗口－视区变换 窗口－视区变换 窗口和视区是在不同的坐标系中定义的，窗口中的图形信息送到视区输出前，需进行坐标变换，即把用户坐标系的坐标值转化为设备(屏幕)坐标系的坐标值，此变换即窗口—视区变换 。 （XV, YV） 视区 窗口 （XW, YW） （XV1, YV1） （XV2, YV2） （Xw1, Yw1） （Xw2, Yw2） Y Y o o x x XV = XV1 ＋ （XW －XW1） YV = YV1 ＋ （YW －YW1） XW = XW1＋ （XV－XV1） YW = YW1 ＋ （YV－YV1） 打印选择的窗口区 打印预览看到的效果 图形裁剪技术 二维裁剪技术 三维裁剪技术 实际应用