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研磨手法の確立に向けて
研磨手法の確立に向けて 2 (株)ナノオプトニクス?エナジー 高橋啓介 11/14 技術検討会@岡山 はじめに 研磨軸の現状 パッド形状 ストライプ研磨(10/5~10/7) ストライプ研磨測定結果 全面研磨(10/20~10/27) 補正研磨(10/29~10/30) 補正前後の形状比較 研磨シミュレータの開発 1:概念 研磨シミュレータの開発 2:テスト 研磨シミュレータの開発 3:結果 研磨シミュレータの開発 4:まとめ まとめ * 前回技術検討会 7/25からの進捗 9月:研磨軸プロトタイプ完成、テスト台上にてテスト開始。 パッド形状の選定、ジョイント部の改良 10月:研削機上に研磨軸設置、3段階の研磨テストを行う ストライプ研磨 全面研磨 補正研磨 研磨(量、形状)予想のためのシミュレータを作成 ? ? ? 全面研磨の様子 スラリー供給用チューブ 中空ロータリーアクチュエータ 振り子運動用モーター 錘 ユニバーサルジョイント 1um酸化セリウムスラリー ?スラリーを不足なくパッド全面に行き渡らせる ?中心付近は周速が小さく研磨効率は良くない →くりぬき ?作りやすさ→条件を変えないため ?テストにてよい結果が得られること (研磨跡、異音等) 形状決定に重要なこと 「連絡付き星型」 ?外周部にもスラリーが流れ易い ?内周部にも入り、滲み出す ?それなりに作りやすい 目的:研磨によってCGH測定が可能な面を作れることの確認 研削機上で位置制御をした場合の研磨テスト ① ② ③ ④ ?首振り機能を用いて、進行方向の角度のみ調節 ?進行方向と垂直に±30mmのジグザグ(2mmピッチ) ?パッド:Φ60、230rpm、530Nパッド、錘:3.6kg ストライプ研磨を行った領域ではCGH測定に十分な面が得られた ?②、③は同じパッドを連続使用(耐久性テスト) 60mm 2mm 進行方向 Fig.3 干渉縞から求めた形状 テーブル回転中心 研削加工時の誤差 A A’ ④ ③ ② ① ?帯中心付近でのP-V:~60nm、rms:~5nm ?パッド滞在時間が最も長い中央が 深く(1.6um)研磨されたV字型の谷に ?パッドを連続使用した③の粗さは①、②に比べ 悪い(特に、周速の大きい部分) →パッドの「へたり」の影響 ?首振り機能は使わず、ジョイントでワークにならわせる →パッド回転数を小さいものに変更(230→100 rpm) 目的:CGHでセグメント全体の測定が可能な面を作る ?パッド:Φ60、46,100rpm、錘:5.8kg,3.6kg ?5往復(58h)→研削痕は残るものの、 CGH測定には十分な面(写真は4.5往復後) ?セグメントの端→パッドを15mmはみださせる 研磨パスサンプル ?端に研磨不足の領域→パッド滞在時間が短い 対策 小さいパッドで補正 縁にダミー硝材をつけパッドを完全通過 ?CGH測定によって得られた形状誤差の大きい領域6箇所に対して実施 ① ② ⑤ ③ ⑥ ④ ①、②:スパイラル ③~⑥:ジグザグ (①~⑤はΦ60パッド、⑥はΦ30パッド、~110rpm) 目的:狙い通りの形状、除去量に研磨する方法の確立 →研磨シミュレーションを行った後、研磨開始 補正前 補正後 ?形状誤差を減らすことはできているが、細かい構造(帯の端に深い領域) を作ってしまっている。 ?パッドよりも小さな形状誤差を補正するのは非常に困難 →誤差の拡がりに応じて、パッド径を変更して対応する必要 T1 T2 T3 T4 T5 T1 T2 T3 T4 T5 ?非常にシンプルなシミュレータ(パッドの切り方、ワークの傾き、形状無視) 1:ワークにメッシュを切り、パッドの軌跡(点)と滞在時間を決める 2:点を中心としたパッドを仮定し、周速(点からの距離)、圧力、滞在時間に応じた 除去量(相対値)を与える 3:実際の研磨(ストライプ研磨)と比較することで除去量の絶対値を求める 目的:実際の加工を行う前に、形状、除去量についての見積りを行う z x 0.67 1.0 0.25 0.25 0.48 0.48 予想除去量 (um) 108 54 108 108 25 25 移動速度 (mm/min) 30 60 60 60 60 60 パッド径 (mm) ⑥ ⑤ ④ ③ ② ① 番号 ?各補正ごとにシミュレーションを行い(①と②は併用) それぞれに目標(予想)除去量を決定し、パッドの 移動速度を決定する。 共通条件 錘:3.6kg、回転数:~110rpm 1.0 0.8 0.3 0.27 0.5 0.8 実際の除去量 (um) 0.67 0.9 0.25 0.25 0.48 0.48 予
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