超纯水系统剖析.ppt

* 离子交换塔之外观 * 一级处理装置(五)-离子交换装置3 2B3T系统: 常用之设计概念，处理水质可得导电率10 μs/cm ，SiO2 0.1mg/L的水。 当树脂上的官能基都被吸附的离子占满时，称做饱和。此时须分别以酸(如HCl)与碱(如NaOH)注入阳、阴离子当中，将其还原为H+及OH-始可利用。 * 二级处理(精炼段)装置概述 一级处理后的水质可达到和蒸馏水相当等级，比阻值可达15 MΩ-cm以上，TOC和SiO2分别降至50及10ppb。而精炼段之目的则是将比阻值提升至18 MΩ-cm以上，TOC和SiO2分别降至25及5ppb以下。为达此目的常使用的单元有(1)185nm UV，(2)精炼(Polisher)混床树脂，(3)超过滤膜(Ultra filtrtion ，UF)。 * 半导体级精炼树脂 Polisher  精炼混床树脂桶内填装着强酸型与强碱型树脂，皆为半导体纯水等级，当水质之比电阻值下降或SiO2增高时，则需将树脂更换而不进行再生。此单元为对超纯水含盐量的严密把关。 通常纯水进入精炼树脂前，会先以波长185nm之紫外光将水中有机物裂解成有机酸及CO2，再利用精炼树脂去除有机酸及CO2所形成之碳酸。 * 半导体级精炼树脂 Polisher 外观 * 超过滤设备-UF 1 经精炼混床塔后，纯水再进入两组超过滤设备。此单元是超纯水系统的最后一站，设计于产出无粒子之超纯水，以具有双层结构的超过滤膜所组成，其滤膜具平滑的表面，以避免粒子及微生物的附着，可去除分子量大于10000的物质。 其主要原理系藉筛滤作用使溶液在受压力状态下流经薄膜，而其中尺寸较大的溶质，则无法通过薄膜而达到分离效果。95%的滤过水通过中空的纤维滤膜后，流到系统管路中，此为最终产出之超纯水。 * 超过滤设备-UF 2 UF之滤膜通常以Poly sulfone 或PVDF制成，其孔径远小于0.1μm ，通常以欲过滤之分子量作分界，公称滤过分子量可为8000、20000、50000、100000 。 UF对管路、阀件、Pump等设备所释出之particle有相当好之拦阻效果。 通常为延长UF之使用年限，往往会在其之前加装1个0.1-0.5μm之MF 。 * 超过滤设备-UF外观 * 超过滤设备-UF细部认识 * 超过滤设备-UF外观认识 * 岁修之管路消毒 许多厂区会在超纯水中加入Ozone (O3)或过氧化氢(H2O2)来消毒管路，但因臭氧半衰期短，不留残余物，可用UV灯分解，因而成为新兴宠儿。 * 单元处理小结 * 纯水配管1 * 纯水配管2 PVC在高温(80℃)会放出较多的Na+、Ca2+、Cl-及SO42-，PVDF及PFA在高温下会放出较多的F-，因PEEK吴添加剂，其余高温下仅有少量污染物释出。 在25℃时，PEEK之TOC释出量亦最少。 价格: PVC: PVDF: PFA: PEEK= 1: 6: 10: 26 。 * 纯水配管3 * 新技术介绍-HERO HERO (High Efficiency Reverse Osmosis): 水进入RO 前先加碱，使pH值介于10-11间，Silica在此环境下会成离子态而不易结垢(Scaling) ， 以增加回收率。但须注意钙镁离子于此环境下易形成碳酸盐结垢，因此须加阳离子交换树脂。 * 新技术介绍-EDI (电气脱离子设备) EDI (Electrode ionization): 两端有电极，通直流电数十至数百伏特，纯水由离子交换树脂层通过，被浓缩的离子由Spacer通过。 对硼素及Silica有显著之处理效果(98.5% for silica，95% for B) 。 * 新技术介绍-EDI * EDI之外观 谢谢聆听 E-mail: wschan@ndl.gov.tw Tel: 06-5050650#604 * 前处理装置(三)－活性碳处理1 活性碳：很好的吸附剂，具有多孔性，具大比表面积（~1000m2/g）的特性，大部分半导体界用的活性碳为颗粒状，由椰子壳烧结，1000℃活化而成，并须经辐射照射成无菌状态。 过滤机制：吸附有机物，是前处理中降低TOC的有效方法。同时它也会吸附残留的氯，间接保护RO等设备。 * 前处理装置(三)－活性碳处理2 * 前处理装置(四)－初级过滤器1 概述：在纯水进入RO膜处理前，通常会设置一种高分子材质的滤膜，孔径为1或5μm（MF, Microfilter），可将活性碳槽中破碎的活性碳粉或离子交换树脂拦截，以免它随着水漂流至后续的设备中。这种薄膜过滤的膜组常作成套筒（cartridge）式。通常选用不溶出材质聚丙烯 (PP)，具耐强酸、强碱、耐药品性、耐热性之特点。*（F.F.约可去除粒径10μm