激光诱导化学气相沉积法(LCVD)研讨.pptxVIP

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2017-05-03 发布于湖北
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激光诱导化学气相沉积法(LCVD)研讨.pptx

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激光诱导化学气相沉积法(LCVD)研讨

纳米材料的常用制备方法气相法 1.气体冷凝法 2.活性氢—熔融金属反应法 3.溅射法 4.流动液面上真空蒸镀法 5.通电加热蒸发法 6.混合等离子法 7.激光诱导化学气相沉积（LICVD） 8.爆炸丝法 9.化学气相凝聚法（CVC）和燃烧火焰化学气相凝聚法（CFCVC）液相法 1.沉淀法 2.喷雾法 3.水热法（高温水解法） 4.溶剂挥发分解法 5.溶胶--凝胶法（胶体化学法） 6.辐射化学合成法 7.微乳液法固相法 1.盐类热分解。 2.球磨法- 机械合金法;激光诱导化学气相沉积法(LICVD); ;一、背景介绍;一、背景介绍; 气相沉积涂层技术是材料表面改性技术中的一个重要组成部分。由于激光具有高能量密度及良好的相干性能通过激光激活可使常规 CVD技术得到强化。 LICVD已从最初的金属膜沉积发展到半导体膜、介质膜、非晶态膜以及掺杂膜等在内的各种薄膜材料的沉积。目前，应用连续CO2激光制取TiN膜、TiC膜及复合氮化钛膜已有报道。;二、激光化学气相沉积（LICVD）原理;LICVD法合成纳米粉末的实验原理;LICVD法反应装置;LICVD法反应装置;LICVD法合成纳米粉末的实验过程;三、激光化学气相沉积的应用与发展应用实例：LICVD法制备纳米硅;LICVD在薄膜制造领域的应用1、LICVD半导体薄膜材料;2、金刚石、纳米碳管与超硬膜;3、介质膜;4、微电子薄膜领域;四、分析评价;LICVD研究现状;LICVD发展前景;结束语