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TiAlN薄膜的两种pvd法制备;汇报内容：;材料背景;传统的TiN薄膜，硬度大约在20GPa，能够有效改善基体的表面性能。 然而，当温度升到500度以上时，其抗氧化性能达到极限，从而限制TiN薄膜的应用。TiAlN薄膜能够有效改善TiN薄膜在高温下不稳定的缺点，其硬度比TiN薄膜显著提高(30GPa)。同时，随着温度的升高，其抗氧化能力也比TiN膜好很多，因为在高温条件下，铝在薄膜表面形成稳定的氧化物A12O3，从而有效的保护了TiA1N膜层，因而具备了很好的抗氧化、耐磨、耐腐蚀等性能，使得TiA1N薄膜在航空航天材料、发动机材料、刀具、模具等领域有了广泛的应用前景。;目前比较常用的TiAlN薄膜的有磁控溅射法、脉冲激光沉积法、离子柬辅助沉积法、多弧离子镀沉积、等离子体增强化学气相沉积。其中，磁控溅射和多弧离子镀应用的最为广泛。 PVD法能将熔点不同的Ti和Al从Ti．Al阴极合金靶中???离出来形成气体相，其中多弧离子镀是通过加热蒸发源得到，而磁控溅射是通过轰击靶材实现。但离子镀过程要比溅射过程需要更高的能量，因为前者是将高能弧流聚集到金属表面上一点，使该点金属迅速蒸发；而溅射是使离子或中性粒子轰击靶材得到金属原子。;图1 磁控溅射结构原理图;1.磁控溅射法;2.多弧离子镀法;多弧离子镀的基本组成包括真空镀膜室、阴极弧源、基片、负偏压电源、真空系统等，如图所示。 1-阴极弧源（靶材）；2、3-进气口；4-真空系统；5-基片（试样）；6-偏压电源。;工作原理是：在真空条件下，金属阴极和触发电极在10KV脉冲高压下，触发放电，在阴极表面形成产生金属等离子体的阴极斑点，放电产生的大量热量使阴极斑点处金属被局部蒸发，电离，形成高密度的金属等离子体。;在靶面前方附近形成的金属等离子体，由电子、正离子、液滴和中性金属蒸气原子所组成。为了解释这种高度离化的过程，已经建立了一种稳态的蒸发离化模型，见图4。该模型认为，由于阴极弧斑的能流密度非常大，在阴极的表面上形成微小熔池，这些微小熔池导致阴极靶材的剧烈蒸发。电子被阴极表面的强电场加速，以极高的速度飞离阴极表面，并且电子会与中性原子碰撞，并使之离化，这个区域称为离化区。由于电子比重离子轻得多，所以电子飞离离化区的速度要比重离子高得多，这样在离化区就出现正的空间电荷云。;离化区域的空间电荷，是导致加速区强电场的主要原因，该电场一方面使电子加速离开阴极表面，另一方面也使得离子回归阴极表面，该回归的离子流可能导致阴极表面温度在一定程度上的增加。此外，回归的离子流对熔池表面的冲击作用可能是液滴喷溅的原因，按照这种解释，在基片上只能接收到离子和液滴，而无中性原子。;图6 北京天瑞星公司的TX-1212型多功能真空离子镀镀膜机;多弧离子镀技术主要有下面几个优点： （1）金属离化率高，有利于涂层的均匀性和提高附着力，是实现离子镀膜的最 佳工艺，金属离化率一般可达到60%~80%。 （2）外加磁场可以使电弧细碎；旋转速度加快；改善弧光放电；对带电粒子产生加速作用；细化膜层微粒。 （3）基板转动机制简化，金属阴极蒸发器不融化，可以任意安放使涂层均匀。 （4）一弧多用，即是蒸发源，预轰击净化源和离子源。 （5）设备结构简单，可以拼装，适于镀各种形状的零件，包括细长杆，如拉刀等。 （6）工作环境真空度高，气体杂质少。 （7）适合于制备厚度较厚的薄膜材料和复杂外形表面的覆盖能力，即薄膜沉积 过程的绕射性高。; (a)磁控溅射TiAlN涂层 ( b)离子镀TiAlN涂层 图7 两种TiAlN涂层表面形貌 ;涂层应用;TiAlN硬质薄膜最初应用在切削加工使用的各种刀具中，包括车刀、锉刀、钻头、铰刀、拉刀、丝锥、螺纹梳刀、铣刀、齿轮滚刀等零件。由于其氧化温度较高，所以特别适用于高速切削中。;用TiAIN硬质薄膜制造的微型高精密轴承大大提高了其表面的物理、化学及机械性能而被广泛应用于运载火箭、卫星、飞机及舰船等方面。 TiAlN薄膜集中了TiN和AIN薄膜的优点，它的机械性能、电性能以及抗氧化和腐蚀性能等在工程应用上取得了令人满意的结果。 ;研究现状; TiAlN薄膜的研究人们大多从两个方面进行讨论，首先是薄膜的各沉积工艺参数对所制各膜层的成分及性能的影响，其次是Al元素的含量对膜层成分及性能的影响。 在制备工艺方面，Fesman等人用MAV一32型电弧离子镀设各，在高速钢基底上制备了TiAlN薄膜，制备过程中基底负偏压为0-200V，频率是0-25KHz可调，在基底温度为290℃、基底负偏压为50V时得到了结台力和膜层硬度都良好的薄膜，大大的提高了工具的使用寿命。此外．在对直流偏压和脉冲偏压的对比中发现，脉冲偏压能很好的降