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第二章 精细有机合成基础
1.芳香族亲电取代的定位规律
2.化学反应的计量学
3.化学反应器
4.精细有机合成中的溶剂效应
5.气—固相接触催化
6.相转移催化
7.均相配位催化
8.电解有机合成
2.1 芳香族亲电取代的定位规律
2.1.1 反应历程
绝大多数是按照经过δ配合物的两步历程进行。
以苯为例:
第一步
是亲电试剂E+进攻苯环,当亲电试剂E+进攻苯环时,首先与苯环上离域分子、闭合共扼的π电子体系相作用,形成π配合物,接着π配合物中的E+从苯环上的闭合π电子体系获得两个电子,同时,与苯环上的某一个碳原子形成δ键,并生成δ配合物。
第二步
是产物的生成,即δ配合物脱落一个H+而生成取代产物。第二步是整个反应的控制步骤。
反应历程
在形成π配合物时,并没有形成新氢键,∴活化能ΔE1很小。π配合物的形成速度和解离速度很快→对产物、V没有影响。在δ配合物中,苯环的闭合共扼体系被破坏,因此生成的δ配合物的活化能ΔE2比较大,为了使自己稳定,它就要快脱落E+变成反应物苯而没有发生正反应,或快速脱落H+而变为产物,即发生了亲电取代反应。
芳环上已有取代基的极性效应和两类定位基
邻位取代
对位取代
间位取代
亲电试剂的活泼性越高,亲电取代反应速度越快,反应的选择性越低。
亲电试剂的活泼性越低,亲电取代反应速度越低,反应的选择性越高。
2.1.2苯环上已有取代基的定位规律(P8)
第一类定位基→邻、对位定位基(卤原子例外),活化苯环,按其定位能力由强到弱排布:
—O-、—N(CH3)2、—NH2、—OH、—OCH3、—NHCOOH、—OCOCH3、—F、—Cl、—Br、—I、—C6H5、—C2H5、—CH2COOH、—CH2F等。
2.1.2 苯环上已有取代基的定位规律(P8)
第二类定位基,间接定位基,钝化苯环
—N+(CH3)3、—CF3、—NO2、—CN、—SO3H、—COOH、—CHO、—COOCH3、—COCH3、—CONH2、—NH2、—CH3等
2.1.3 苯环上取代定位规律
1)已有取代基的电子效应
(1)取代基E只具有供电诱导效应
例如烷基:
取代基的供电诱导效应+I都使苯环活化→邻、对位定位
其中甲基还具有供电超共扼效应+T超、
+I超。∴其活化作用比其它烷基大。
(2)取代基中同苯环相连的原子具有未共有电子时
∴ 它们都是邻、对位定位基,除此以外,其他的还有吸电的诱导效应-I,且会影响取代基的活化作用。
对于氨基和羟基,其∣+T∣∣-I∣→活化苯环
对于卤原子,∣-T∣∣-I∣→钝化苯环
T :共扼效应;+T:供电共扼效应;-T:吸电共扼效应;I:诱导效应;+I:供电诱导效应;-I:吸电诱导效应
(3)取代苯基具有吸电诱导效应
取代基有吸电诱导效应-I,而且和苯环相连的原子没有未共有电子对
例:—+NR3、—NO2、—CF3、—CN、—SO3H、—CHO、—COR等
它们使苯环钝化,而且是间位定位基
2)已有取代基的定位效应
主要是:空间位阻作用
只有在已有取代基的电子效应相差不大时才能成立,如果已有取代基的电子效应相差大时,则电子效应的差别起主要作用。例如:卤原子所占空间增大时,邻/对比不是减少,而是增大。
4种卤原子的电负性是F ? Cl Br I
4种卤原子的吸电子效应是-IF-ICl-IBr-II
吸电诱导效应-I对距离较近的邻位的影响比距离较远的对位的影响大一些,因为-I钝化苯环,使一些取代基定位到间位上
由以上原因得出:邻位异构产物的比例为氟苯氯苯溴苯碘苯
3)亲电试剂的电子效应
从表2-3 P12中可看出,E+越活泼,定位选择性差;E+活泼性低时,其定位选择性好。
KT/KB:甲苯相对于苯反应速度常数比
KT/KB实际上是将等mol比甲苯和苯的混合物用不足量的试剂进行某一亲电取代反应时,甲苯和苯的转化率之比。当E+活泼时,E+每次与甲苯分子或苯分子碰撞几乎都能发生反应。
(1)对SN1反应,极性溶剂有利于中性化合物R-X的解离。
R-X→R++X-
溶剂极性越大,反应速度越快。
(2)对SN2反应,Nu-易与质子传递型溶剂形成氢键,使反应活性降低。
反应宜在非质子传递型溶剂中进行。
4)亲电试剂E的空间效应5)新取代基E的空间效应
从表2-3中可以看出,E+体积大时,邻位的异构产物的生成比例减少(以卤化为例)
E空间位阻大时,邻位异构产物的生成比例减少。例表2-3中,C—烷化为例,随着烷基体积的增大,邻位异构产物的生成比例随之减少。
6)反应的可逆性
1 对于不可逆的亲电取代反应,电子效应对定位起主导作用,即各异构产物的生成比例主要取决于各异构物的δ配合物中间体的相对稳定性。
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