低温多晶硅TFTLCD制作技术的发展与趋势.docVIP

低温多晶硅TFT-LCD制作技术的发展与趋势 newmaker 摘要 人类正在进入信息时代，在这一时代，作为显示技术，薄膜晶体管液晶显示（TFT-LCD）越来越被市场看好，因为该技术具有低功耗，高分辨率等优点。TFT-LCD可分为非晶硅（a-si）与多晶硅（p-si）以及单晶硅（s-si）等型，相比之下，p-siTFT-LCD更能克服电源的不稳定以及对大规模集成电路（LSL）的依赖，从而能大大降低成本，所以p-si TFT-LCD成了目前研制与开发LCD的主流。 一、前言 依据加工的温度，p-si TFT又可分为低温与高温TFT（LTPS-TFT与HTPS-TFT）两类。由于加工的温度不同，用它们制作的TFT-LCD便有着如表1所示的差异。从表1可以得知LTPS TFT-LCD器件要比HTPS TFT-LCD器件具有更低的成本，更简明的工艺和更大的应用范围，因而近来得到了广泛的研究与发展。 表1 LTPS与HTPS TFT-LCD的比较  二、LTPS TFT-LCD技术的回顾 对LTPS TFT-LCD技术的研究起始于上世纪80年代中期：1984年，4.32cm屏对角线的产品问世;1996年，6.35cm屏对角线的产品问世；1998年，日本东芝公司开始批量生产LTPS TFT-LCD器件，其尺寸已达38.1cm，分辨率也达到了UXGA级。 表2 两种门结构的T