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第二章 真空蒸发镀膜法 The Vacuum Evaporation 讲解人： aaa 1111111 2-3 蒸发源的类型 1 蒸发源是用来加热膜材使之汽化蒸发的装置。 蒸发源是蒸发装置的关键部件，大多数金属材料都要求在1000~2000℃的高温下蒸发。因此，必须将蒸发材料加热到很高的蒸发温度。最常用的加热方式有：电阻法，电子束法，高频法等。根据不同的加热方式可以将蒸发源分为三大类，分别是：电阻蒸发源，电子束蒸发源，高频感应蒸发源。 2 电阻蒸发源 采用钽、钼、钨等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源，其上装入待蒸发材料，让电流通过，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放入Al2O3、BeO 等坩埚中进行间接加热蒸发 。 优点：蒸发源结构简单、廉价易操作 缺点：需考虑蒸发源的材料和形状 2-3 蒸发源的类型 3 电阻蒸发源 ①. 高熔点 ②. 低饱和蒸汽压 1. 蒸发源材料 2-3 蒸发源的类型 4 1. 蒸发源材料 电阻蒸发源 ③. 化学性能稳定，在高温下不应与蒸发材料发生化学反应。 ⑤. 原料丰富，经济耐用。 ④. 具有良好的耐热性。热源变化时，功率密度变化较小； 2-3 蒸发源的类型 5 电阻蒸发源 在制膜工艺中，常用的蒸发源材料有W、Mo、Ta等，或耐高温的金属氧化物，陶瓷或石墨坩埚。 2-3 蒸发源的类型 6 电阻蒸发源 2.蒸镀材料与蒸发源材料的湿润性 蒸镀材料与蒸发源材料的湿润性与蒸发材料的表面能大小有关。 高温熔化的蒸镀材料在蒸发源上有扩展倾向时，可以认为是容易湿润的；如果在蒸发源上有凝聚而接近于形成球形的倾向时，就可以认为是难于湿润的。 在湿润的情况下，材料的蒸发是从大的表面上发生的且比较稳定，可以认为是面蒸发源的蒸发；在湿润小的时候，一般可认为是点蒸发源的蒸发。如果容易发生湿润，蒸发材料与蒸发源十分亲和，蒸发状态稳定；如果是难以湿润的，在采用丝状蒸发源时，蒸发材料就容易从蒸发源上掉下来。 2-3 蒸发源的类型 7 电阻蒸发源 蒸发源的形状可根据蒸发材料的性质，结合考虑与蒸发源材料的湿润性，制作成不同的形式和选用不同的蒸发源物质。 丝状蒸发源常用于蒸发铝，因为铝和钨的能相互润湿，为了增大蒸发表面，还有多股丝状蒸发源。而锥形篮蒸发源通常用于块状的升华材料和不易与蒸发源相润湿的材料。 2-3 蒸发源的类型 8 电子束蒸发源 2-3 蒸发源的类型 电子束蒸发将蒸发材料放入水冷铜坩埚中，电子在电场作用下，获得动能轰击到处于阳极的蒸发材料上，使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜，是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向，特别适合制作高熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。 优点 : ①. 电子束轰击热源的束流密度高，能获得远比电阻加热源更大的能流密度。 ②. 由于被蒸发材料是置于水冷坩埚内，因而可避免容器材料的蒸发，以及容器材料与蒸镀材料之间的反应，这对提高镀膜的纯度极为重要。 ③. 热量可直接加到蒸镀材料的表面，因而热效率高，热传导和热辐射的损失少。 缺点： 电子枪发出的一次电子和蒸发材料发出的二次电子会电离蒸发原子和残余气体分子，从而影响膜层质量。 9 电子束蒸发源 根据电子束蒸发源的形式不同，可分为环形枪，直枪，e型枪和空心阴极电子枪等几种。 电子束蒸发源的形势 直枪是一种轴对称的直线加速枪，电子从灯丝阴极发射，聚成细束，经阳极加速后打在坩锅中使镀膜材料融化和蒸发。直枪的功率从几百瓦至几百千瓦的都有，有的可用于真空蒸发，有的可用于真空冶炼。直枪的缺点是蒸镀的材料会污染枪体结构，给运行的稳定性带来困难，同时发射灯丝上逸出的钠离子等也会引起膜层的污染 2-3 蒸发源的类型 电子束蒸发源 e型电子枪，即270度偏转的电子枪克服了直枪的缺点，是目前用的较多的电子束蒸发源之一。 e型电子枪可以产生很多的功率密度，能融化高熔点的金属，产生的蒸发粒子能量高，使膜层和基底结合牢固，成膜的质量较好。缺点使电子枪要求较高的真空度，并需要使用负高压，真空室内要求有查压板，这些造成了设备结构复杂，安全性差，不易维护，造价也较高。 2-3 蒸发源的类型 10 11 高频感应蒸发源 将装有蒸发材料的坩埚放在高频螺旋线圈的中央，使蒸发材料在高频电磁场的感应下产生强大的涡流损失和磁滞损失（对铁磁体），致使蒸发材料升温，直至气化蒸发。 2-3 蒸发源的类型 6 高频感应蒸发源 高频感应蒸发源的优点： 1）蒸发速率大，可比电阻蒸发源大10倍左右； 2）蒸发源的温度均匀稳定，不易产生飞溅现象； 3）蒸发材料是金属时，蒸发材料可产