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探针显微技术(AFM)doc
掃描探針顯微技術(Scanning Probe Microscopy:SPM)係指具有『掃描機制與動作』及『微細探針機制』的顯微技術;而原子力顯微鏡(1986年誕生)為掃描探針顯微技術 (SPM)的代表儀器,其在科學上的應用已非侷限於奈米尺度表面影像的量測,更廣為應用於探索奈米尺度下,微觀的物性(光、力、電、磁)量測,對奈米科技 有直接的助益。AFM 是由Binnig等人於1986年所發明的,具有原子級解像能力,可應用於多種材料表面檢測,並能在真空、氣體或液體環境中操作。AFM之探針一般由成份 為Si或Si3N4懸臂樑及針尖所組成,針尖尖端直徑介於20至100nm之間。主要原理係藉由針尖與試片間的原子作用力,使懸臂樑產生微細位移,以測得 表面結構形狀,其中最常用的距離控制方式為光束偏折技術。AFM操作模式可區分為接觸式(contact)、非接觸式(non-contact)及間歇接 觸式(或稱為輕敲式,intermittent contact or tapping)三大類,不過若要獲得真正原子解析度,必須以非接觸式的操作模式在真空環境下方能得到。目前原子力顯微鏡(AFM)的應用範圍十分廣泛, 包括表面形貌量測、粗糙度分析及生醫樣品檢測等。
原子力顯微鏡(AFM) 屬於掃描探針顯微技術(SPM)的一支,此類顯微技術都是利用特製的微小探針,來偵測探針與樣品表面之間的某種交互作用,如穿隧電流、原子力、磁力、近場 電磁波等等,然後使用一個具有三軸位移的壓電陶瓷掃描器,使探針在樣品表面做左右前後掃描(或樣品做掃描),並利用此掃描器的垂直微調能力及迴饋電路,讓 探針與樣品問的交互作用在掃描過程中維持固定,此時兩者距離在數至數百A°(10-10m)之間,而只要記錄掃描面上每點的垂直微調距離,我們便能得到樣品表面的等交互作用圖像,這些資料便可用來推導出樣品表面特性。圖6-4是原子力顯微鏡(AFM)的結構示意圖。
AFM 的主要結構可分為探針、偏移量偵測器、掃描器、迴饋電路及電腦控制系統五大部分,最常見的機構如圖6-4所示。距離控制方式為光束偏折技術,光係由二極體 雷射產生出來後,聚焦在鍍有金屬薄膜的探針尖端背面,然後光束被反射至四象限光電二極體,在經過放大電路轉成電壓訊號後,垂直部份的兩個電壓訊號相減得到 差分訊號,當電腦控制X、y軸驅動器使樣品掃描時,探針會上下偏移,差分訊號也跟著改變,因此迴饋電路便控制z軸驅動器調整探針與樣品距離,此距離微調或 其他訊號送入電腦中,記錄成為X、Y的函數,便是AFM影像。
圖6-4
AFM 的探針是由針尖附在懸臂樑前端所組成,當探針尖端與樣品表面接觸時,由於懸臂樑的彈性係數與原子間的作用力常數相當,因此針尖原子與樣品表面原子的作用力 便會使探針在垂直方向移動,簡單的說就是樣品表面的高低起伏使探針作上下偏移,而藉著調整探針與樣品距離,便可在掃描過程中維持固定的原子力,此垂直微調 距離,或簡稱為高度,便可當成二維函數儲存起來,也就是掃描區域的等原子力圖像,這通常對應於樣品的表面地形,一般稱為高度影像。
AFM的操作模式可大略分為以下三種:(1)接觸式:在接觸式操作下,探針與樣品問的作用力是原子間的排斥力,這是最早被發展出來的操作模式,由於排斥力對距離非常敏感,所以接觸式AFM較容易得到原子解析度。在一般的接觸式量測中,探針與樣品問的作用力很小,約為10-6至10-10N (Newton),但由於接觸面積極小,因此過大的作用力仍會損壞樣品表面,但較大的的作用力通常可得到較佳的解析度。因此選擇適當的的作用力,接觸式的 操作模式是十分重要的。(2)非接觸式:為了解決接觸式AFM可能損壞樣品的缺點,便有非接觸式AFM發展出來,這是利用原子間的長距離吸引力『凡德瓦爾 力』來運作。凡德瓦爾力對距離的變化非常小,因此必須使用調變技術來增強訊號對雜訊比,便能得到等作用力圖像,這也就是樣品的高度影像。一般非接觸式 AFM只有約50nm(10-9m)的解析度,不過在真空環境下操作,其解析度可達原子級的解析度,是AFM中解析度最佳的操作模 式。(3)輕敲式:第三種輕敲式AFM則是將非接觸式加以改良,其原理係將探針與樣品距離加近,然後增大振幅,使探針在振盪至波谷時接觸樣品,由於樣品的 表面高低起伏,使得振幅改變,再利用類似非接觸式的迴饋控制方式,便能取得高度影像。
由於AFM 具有原子級的解析度,是各種薄膜粗糙度檢測,及微觀表面結構研究的重要工具,並且也很適合與掃描電子顯微鏡相搭配,成為從mm至nm尺度的表面分析儀器 (參閱表6-3);而AFM亦可在液體環境中操作,更可用來觀測材料表面在化學反應過程中的變化,以及生物活體的動態行為,可廣泛應用於生物科技及醫學科 技上。另外就是AFM亦可應用於奈米結構之製作與加工,目前已有
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