课程设计参考报告——提高光Z学光刻分辨率的方法研究.docVIP

微电子工艺课程设计 提供光学光刻分辨率的方法研究  目录 摘要 5 关键词 5 引言 5 正文 6 一、 提高分辨率的方法 6 1. 影响图形光刻分辨率的主要因素 6 1.1掩膜（Mask） 6 1.2 照明系统（Illumination system） 7 1.3 投影（Projection） 7 1.4发射和过滤特性 8 1.5成像(Image) 9 1.6曝光（Expose） 10 1.7烘烤（Bake） 11 1.8显影（Develop） 11 1.9一些效应的影响 12 2. 提高分辨率的措施 14 2.1掩膜 14 2.2照明系统 15 2.3投影（Projection） 16 2.4发射和过滤特性 17 2.5成像（Image） 18 2.6曝光（Expose） 18 2.7烘烤（Bake） 19 2.8显影（Develop） 20 2.9一些常见且有效的技术 22 2.10采用先进的光刻技术 28 二、 一个优化的工艺组合方案的各参数的确定 31 1 掩膜版和照明窗口的设计 31 仿真1 33 仿真2 35 仿真3 36 仿真4 37 仿真5 39 仿真6 40 结论 41 2 数值孔径 42 3光照波长 42 仿真1： 42 仿真2： 43 仿真3： 44 仿真4： 45 结论 46 4 照明系统与光轴的角度和离轴照明技术的结合使用 46 仿