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气体监控系统介绍 2012年3月 1、特气供应系统 引言-特气供应系统概述 1.1-气体的分类 1.2-特气供应系统 1.3-BSGS简介 1.4-GC/GR简介 1.5-VDB/VDP简介 1.6-VMB/VMP简介 引言、特气供应系统概述 在目前生产工艺较为先进的半导体晶圆代工厂的制造过程中，大概需要使用50种不同种类的气体。一般把气体分为大宗气体（Bulk Gas）和特种气体（Special Gas）两种。 大宗气体一般指集中供应及用量较大的气体，涵盖制程用气如PO2、PH2、Ar、PHe 及非制程用气CDA、GN2等；特种气体指用量较少且有一定危害性的气体，如易燃易爆气体SiH4、PH3等 所以针对工业用气中气体特性及用处的不同，需要设计出不同的气体输送系统来满足不同设备的需求，本章我们就集中介绍特殊气体供应系统。 1.1、气体的分类 半导体制造业等相近行业所使用的气体一般按其使用时的特性（图1-1）可分为五大类 1.1、气体的分类 1.1、气体的分类 1.2、特气供应系统