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2016-12-10 发布于重庆
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清华生物材料组 * * 清华大学生物材料组神经细胞在材料表面的附着和生长范昱玮翟勇崔福斋材料表面的纳米粗糙度与细胞贴附细胞选择：大鼠E13.5，中脑黑质细胞。基体材料：硅/氧化硅层（n[111]) 处理方法：HF腐蚀处理氧化层，制造表面的粗糙度细胞活性检测：免疫荧光，激光共聚焦细胞形貌表征：细胞固定和扫描电镜材料表面分析：IR, Ramman, AFM contact Mode 硅片上的黑质神经元利用荧光显微镜的反射式拍摄 200倍细胞和轴突明显，生长状况好硅片上的黑质神经元利用荧光显微镜的反射式拍摄 400倍细胞和轴突明显，生长状况好用荧光素标记TH酶的培养在改型硅片上的黑质细胞 Olymus荧光显微镜,200倍，暴光6分钟胞体和轴突的标记显示清楚，属于特异性荧光用荧光素标记TH酶的培养在处理后硅片上的黑质细胞 Olympus荧光显微镜,400倍，暴光6分钟胞体和突触染色表明黑质细胞的生化活动在体外培养已经发生激光共聚焦荧光图象，荧光素标记TH酶 400倍叠加模式（特异性标记黑质胞体和轴突） Bio-Rad 神经细胞在处理后硅片表面的附着良好细胞对未处理的抛光硅片的较差的附着力细胞很少，形态不佳抛光的硅片表面粗糙度小Ra= 2nm 仅有少量的划痕和突起 (5nm宽) 处理后的表面微观粗糙度大 Ra=20nm, 并且出现大尺度(25nm左右)的岛状结构