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第二篇 电子显微分析 第七章 透射电子显微镜 ◆ TEM的结构与成像原理 ◆ 主要部件的结构与工作原理 ◆ TEM主要性能指标及测定 　§7-1 TEM的结构与成像原理一、 成像原理 采用聚集电子束为照明源照射试样,产生透射电子信号. 试样各区域的组织结构不同,透射电子的强度不同,其与试样相应区域形貌、组织结构一一对应. 反映各微区组织结构特征的透射电子束,经多级聚集放大,在荧光屏上,各微区电子强度分布再现试样组织结构形貌. ◆ 电磁透镜－－－特点 ■ 像差：存在像差 （球差 、象散、色差）。象散可加装消象散器消除，色差通过稳定电压克服，但球差 难于克服。 ■ 分辨率：由衍射效应、球差两因素决定。 2. 电子光学系统----照明系统 ◆ 组成: 电子枪、聚光镜、阴阳极等. ◆ 作用:提供一束高亮度、孔径半角小、 平行度好、束流稳定的电子波 3. 电子光学系统----成像系统 ◆ ???? 物镜(强激磁、短焦距、像差小) 作用:形成第一幅高分辨率的电子显微图像. 特点: M=100-300, f=1--3mm. ◆ ?? 中间镜(弱激磁、长焦距) 作用:调节电镜总放大倍数. 特点: M=0-20可调. ◆ ???? 投影镜(强激磁、短焦距) 作用:放大中间镜像,并投影至荧光屏上 目前高性能TEM一般采用两个中间镜、两个 投影镜,5极透镜放大 三、 TEM结构---真空、电源系统 ◆ 真空系统: 保证镜筒内真空度,防止气体电离放电,电子受气体分子散射,以及灯丝氧化.一般真空度为10-4—10-7 毫米汞柱。 ◆ 电源系统: 保证阴极稳定负压,提供稳定的电流,使电子波长稳定,色差小. 透射电镜需要两部分电源：一是供给电子枪的高压部分，二是供给电磁透镜的低压稳流部分。 电源的稳定性是电镜性能好坏的一个极为重 要的标志。 §7.2 主要部件的结构与工作原理 1. 样品台 作用: 承接样品,使样品平移、倾斜 样品铜网:支撑小而薄试样; 样品杆:实现使样品平移、倾斜 ◆ 样品台---侧插式样品傾斜装置 2. 电子束倾斜与平移装置 利用磁偏转器可使电子束平移、偏转 平移:上、下偏转线圈偏转角相等,但方向 相 反. 倾斜: 上线圈偏θ转角,下线圈反方向偏转 θ+β角,则倾斜了角β 3. 消像散器 作用:矫正电磁透镜磁场,使其旋转对称. 措施:在电磁透镜磁场周围放置两组四对导磁体,每结磁体同极相对安置,通过改变两组电磁体的磁场强度和方向,校正透镜的椭圆形磁场. 4. 光阑 聚光镜光阑 限制照明孔径半角.直径 . 如单聚光镜,置于上方;双聚光镜,置于第二聚光镜下方. 物镜光阑(衬度光阑) 置于物镜后焦平面上,直径 . 目的是挡住散射角较大的电子束,从而在像平面上形成一定衬度的图像. 物镜光阑使孔径角减小,能减小像差. 选区光阑(视场光阑) 置于物镜像平面上,对样品区域进行选择分析,光阑孔径可调.如物镜放大倍数50倍时,则选择光阑孔50um,可选择试样的分析区为1um. §7.3 透镜的主要性能指标及测定 ◆ 分辨率 ◆ 放大倍数 ◆ 加速电压 ◆ 分辨率 表示方法: 点分辨率: 能分辨试样两点最小距离. 1.5—2A0 线分辨率(晶格分辨率): 能分辨试样两线最小距离. 1—1.5A0. 测定 点分辨率: 真空蒸发铂、铂-铱等,得到粒度5-10A0,间距2-10A0粒子,分布在支撑薄上,在已M的TEM中成像,测出两粒子最小间距,则 最小间距/M. 线分辨率(晶格分辨率): 外延生长获定向单晶膜,使已知晶面与支撑薄垂直,摄晶格像,能观察到的最小面间距.即 ◆ 放大倍数 要将试样上10A0,放大到0.2um(人眼分辨),需200万倍.故有时要借助附带光学镜(5-10倍). 利用光栅用试样,摄其放大像,测量光栅条纹像的平均间距,与实际光栅条纹间距之比即为相应条件下的放大倍数.高放大倍数时,应利用晶格像,测量晶格像条纹间距,与实际晶面间距之比,即M. ◆ 加速电压 加速电压高.穿透能力强,可观察厚试样.一般50—200KV.材料分析常用100KV或200KV. * * JEM-2010F型透射电子显微镜外观图 CM200-FEG场发射枪电镜 JEM-2010透射电镜 加速电压200KVLaB6灯丝点分辨率 1.94? 加速电压20KV--200KV、可连续设置加速电压热场发射枪晶格分辨率 1.4?点分辨率 2.4?最小电子束直径1nm能量