扫描电镜实例研究.pptVIP

表面形貌衬度原理及其应用 一、二次电子成像原理 二次电子信号主要用于分析样品的表面形貌。被入射电子束激发出的二次电子数量和原子序数没有明显的关系，但是二次电子对微区表面的几何形状十分敏感。凸出的尖棱、小粒子以及比较陡的斜面处二次电子产额较多，在荧光屏上这些部位的亮度较大，平面上二次电子的产额较少，亮度较低，在深的凹槽低部虽然也能产生较多的二次电子，但这些二次电子不易被检测器收集到，因此槽底的衬度也会显得较暗。 二、二次电子形貌衬度的应用 二次电子形貌衬度的最大用途是观察断口形貌，也可用作抛光腐蚀后的金相表面及烧结样品的自然表面分析，并可用于断裂过程的动态原位观察。 （一）断口分析 图1 30CrMnSi钢沿晶断二次电子像 图2 37SiMnCrNiMoV钢韧窝断口的二次电子像 图3 低碳钢冷脆解理断口的二次电子像 图4 碳纤维增强陶瓷复合材料断口的二次电子像 （二）样品表面形貌 图5 ZrO2陶瓷烧结自然表面的二次电子像 图5给出三种成分ZrO2-Y2O3陶瓷烧结自然表面的扫描电镜照片。图(a)成分为ZrO2-2mol%Y2O3，烧结温度1500℃，为晶粒细小的正方相。图(b)为1 500℃烧结ZrO2-6mol%Y2O3陶瓷的自然表面形态，为晶粒尺寸较大的单相立方相。图(C)为正方相与立方相双相混合