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記者会資料-高効率極端紫外(EUV)光源開発- 日　　時：平成15年11月26日(水)　13：30?14：30 場　　所：大阪大学レーザー核融合研究センター 発 表 者：井澤靖和（文部科学省プロジェクトリーダー） 発表内容： 　　ー　EUVリソグラフィの重要性とEUV光源開発の世界的動向 　　ー　本センターで達成された高効率EUV光源の研究成果とその意義 　　ー　EUV光源開発の今後の展開と実用化技術移転の見通し その他：研究設備の見学 成果説明 錫をターゲットとし、プラズマ発生の最適条件を整えることにより、３％の変換効率を得ることに成功した（世界最高値） 一様性の高いレーザーを球状ターゲットに照射することにより、熱損失の少ないプラズマが発生でき、EUV光への高い変換効率が達成された。 得られた錫プラズマからのスペクトル。さら低密度酸化錫にしてターゲットの初期密度を下げると、不要なスペクトル成分を除去でき、ターゲット供給量も減らすことができます（特許出願済み）。 EUV光源開発研究/共同利用設備が整備され、全国共同利用によりEUV光源プラズマ研究がさらに加速されます。 半導体デバイス微細化のトレンド 我が国におけるEUVリソグラフィ開発体制 EUV光源の開発課題 文部科学省　リーディングプロジェクト極端紫外（EUV）光源開発等による先進半導体製造技術の実用化 * １次世代半