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纳米粒子陶瓷薄膜结构稳定性的工艺控制.doc

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纳米粒子陶瓷薄膜结构稳定性的工艺控制

纳米粒子陶瓷薄膜结构稳定性的工艺控制 徐明霞,窦雁巍,石明,刘军,刘丽月,徐廷献 (天津大学材料科学与工程学院,天津300072) 摘要:主要基于前期研究工作结果,并参考了国内外相关研究成果,介绍和阐述了利用溶胶一凝胶技术制备的氧化钼、氧化钛、钛酸锶陶瓷薄膜过程中,控制薄膜稳定性的主要工艺因素。特别对以无机盐为原料的溶胶一凝胶工艺(ISG工艺)溶胶稳定性原理和措施做了较为详细描述和说明不同出发原料、溶剂和络合剂相匹配性很重要。以钼酸铵为原料,乙二醇和水为溶剂,柠檬酸为络合稳定剂,溶胶在室温下可稳定存放2年以上。干燥控制剂(DCCA)添加于溶胶中,可调整凝胶膜网络质点及其间孔隙的大小与分布,减小热处理过程中膜层应力和薄膜开裂。 关键词:溶胶一凝胶法;薄膜;纳米粒子;工艺控制 中图分类号:TB383 文献标识码:A 文章编号:1008一5548(2001)05一0031一05 纳米材料由于粒子超细化而带来的许多特异功能,例如良好导电材料粒子达到5nm时,由于能带结构的分立化,而变成绝缘体;纳米粒子陶瓷薄膜在光催化、氧化(如污水处理)、气敏特性、表面催化反应特性、磁性(高储能密度)等方面都具有非常大的优势。TiOx、LA2-xMxNiO4等纳米粒子薄膜,表面积大、表面反应活性高,以其为敏感元件、A/F传感器与块体烧结型ZrO2A/F传感器相比,明显的优势是:灵敏度高,响应速度快[1~3]。 纳米粒子陶瓷薄膜制备技术目前国外有两大类:(1)气相沉积法,包括物理气相沉积法(PVD)、化学气相沉积法(CVD)。通常采用工艺技术是真空蒸镀、磁控溅射或离子团化等。这些技术都需昂贵设备,制样空间不易扩大,组分单一化。国内这方面研究条件主要是少数重点实验室具备,进行实验室范围的基础研究。后者通常多采用有机醇盐作原料(例如MOCVD),原料价高、种类少。(2)湿化学法,例如溶胶一凝胶工艺(SG)、液相沉积(LD)。国外SG工艺中主要采用有机醇盐作原料,这种原料价格昂贵,一般比无机盐高5~10倍,有的超过数百倍,而且国内生产种类很少。因此国内近年来开展无机盐(或结合部分有机醇盐)为原料的溶胶一凝胶工艺即ISG工艺【4~6】。这类方法可制备复合组分、多功能、大尺寸样品;原料来源广;设备投资少,试样尺寸和形状不受限制,材料化学组成可以单一,也可多组分掺杂复合,组成均一性高,可达分子级或离子级水平。溶胶一凝胶工艺是一种很有应用前途的制备纳米陶瓷薄膜工艺技术[7]。 作为器件产品性能指标,工艺稳定性是重要指标之一。ISG或SG工艺影响薄膜元件稳定性的主要工艺因素是溶胶的稳定性,其次是溶胶一凝胶膜的形成环境、热处理条件及基片表面状态等。本文主要基于本实验室获得的研究结果,并参考国内外相关的参考文献,就上述工艺因素及相应措施做一介绍和探讨。 1.溶胶稳定性的控制 许多溶胶稳定性,可以通过选择合适的溶剂和络合剂(或螫合剂)控制。不同的出发原料、溶剂和络合剂的种类、用量,甚至添加过程都对溶胶产生明显的影响。例如钛、铝、硅的烷氧基化合物是国内目前易购买、价格不很昂贵醇盐,钛、硅醇盐十分易溶于乙醇等有机溶剂中,而异丙醇铝需要在热水中水解一解胶方能形成透明溶液[8]。利用水溶性无机盐类制作稳定溶胶,溶剂和络合剂的相匹配性更显得重要。 1.1稳定钼溶胶的制备 钼的醇盐或钼的氯化物(或氯氧化物)在日本市场也不多见,而且价格高达1500日元/g;这些原料在国内尚未见到市场销售,有的自己实验室合成钼醇盐MoOCl2(OPr)2,再与元水乙醇配制成薄膜浸涂液[9]。这种浸涂液有强烈水解性,存放很困难。本单位采用市场易购买的钼酸铵[(NH4)6Mo7O24·4H2O]为原料。这是一种多钼酸盐,在酸性溶液中,多钼酸根的聚合倾向很大,易析出MoO3的水合物。钼酸铵的水溶液易受酸碱、温度影响,不稳定;成膜性也不易控制,不适宜作薄膜浸涂液。其不溶于乙醇,80℃、4~6h,可全部溶于乙二醇,形成有一定粘度的透明溶胶[10]。该溶胶可稳定存放 1个月,随后逐渐凝胶化。当添加适量络合剂柠檬酸(H3C6H6O7·H2O,简记 H3R),便可加速钼酸铵的溶解,将 H3R 以水溶液形式添加,加快 H3R的电离: 电离后的络阴离子 HR2-与 MoO2+2有较高的络合稳定度。我们将原溶剂乙二醇2/3换成去离子水,按1:1添加络合剂,并以氨水调到pH~6,约70℃下,lh可溶制成透明、流动性好的溶胶。该溶胶室温下存放2年以上,肉眼看无什么变化,粘度略有增大(约4.5%)。 1.2稳定钛溶胶的制备 氧化钛粉体与薄膜应用范围广,国内外研究报导的多,但涉及到工艺稳定性问题,出于种种原因,鲜见报导。基于材料应用研讨会目的,希望将应用研究

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