上海交通大学有机化学总复习研究报告.ppt

* * * * * * * * 总复习 1. 烷烃： 命名规则：P19-22；螺环和桥环化合物的命名 构象 性质： (1) 取代——自由基历程 (2) 小环不稳定，张力环 注意开环的位置、碳正离子的稳定性（产物马氏加成） 链状------丁烷的构象（交叉式比重叠式稳定） 环状------环己烷（椅式比船式稳定； 大的基团在e键比a键稳定） 注意顺反异构 烯烃: 命名：注意顺反异构体的命名。 过氧化物 亲电加成——马氏规则及反马氏规则 硼氢化 O3/Zn ------- 醛、酮 氧化 酸------酸＋CO2 碱(稀、冷)——邻二醇 环氧化--------环氧乙烷 α氢的卤代——自由基历程 聚合反应 KMnO4 3. 炔 ： 命名：注意烯炔共存，烯醇共存，炔醇共存 (不饱和醇的命名) 加氢反应：与烯相比，活性如何？（大于烯烃） 顺反如何？ Na/NH3-----反 亲电加成：与烯相比，活性如何？（小于烯烃） 加水 酮、醛 硼氢化： 醛、酮 氧化：O3, KMnO4------- 羧酸 炔化物生成：炔化银、炔化铜（鉴别） Lindlar------顺 有何不同？ 4. 二烯烃： 1，4－加成——共振结构的表达 双烯合成——注意构型保持；供电子基和吸电子基对反应活性的影响 6.芳烃： 命名 亲电取代（两类定位基）。 电子云密度的部位大有利于亲电反应 氧化、卤化（哪一个氢？） 休克尔规则——引申到杂环。 α—氢 7. 对映异构：  D，L标记 （1）构型标记 R，S标记 （2） 手性C原子，手性分子的判别 根据对称因素（对称面、对称中心）判断 （3）手性分子的表达 （4）立体合成----内消旋产物和外消旋产物（不要求） 透视式 费歇尔投影式 8.卤代烃 反应：亲核取代、消除反应、格氏反应（与CO2反应） 注意格氏反应不能有活泼氢（水、醇、氨、炔氢等） 机理：SN1（重排）, SN2， E1（重排）, E2（反式） SN1, SN2的影响因素： 烃基结构，离去基团，亲核试剂，溶剂 影响取代与消除的因素： 烃基结构，亲核试剂，溶剂，温度 9. 醇: 酸性：各种醇的酸性大小比较 取代 卤代烃【HX（重排）, PX3, SOCl2,】 消去 烯烃（SN1有重排， SN2反式消除） 氧化 醛 酸 （注意氧化剂的选择，eg：CrO3不影响双键） 酸 酯（无机，有机） 邻二醇（HIO4氧化 ；Pinacol重排） RX水解 制备 C=O CH(OH) Grignard 反应——伯、仲、叔醇 10. 酚： 弱酸性：＜H2CO3（各种取代酚的酸性大小比较） FeCl3显紫色（鉴定烯醇式结构） 取代：活化定位作用【卤化、硝化、磺化、付克烷基、酰基化（Fries 重排）】 氧化——醌 制备（异丙苯氧化、苯磺酸和氯苯碱熔融法等） 11. 醚 性质 Willimson 合成（怎样合成？） * 注意产物，合成物的选择 环醚 （1）与含活泼氢的化合物加成（反式），包括格氏试剂 （2）反应机理 生成釒 盐 羊 醚键的断裂（ 怎样断裂？生成什么产物？） 酸催化——取决于碳正离子稳定性 碱催化——取决于空间效应 12．醛、酮 : 加HCN