改良了扫描式穿隧显微镜.ppt

Atomic Force Microscope 指導老師：吳坤憲 教授 學生：張正倫 高煜彬 郭奐均 原子力顯微術的三種操作模式優缺點 接觸模式之優點： (a) 掃瞄速度較快。 (b) 表面形貌解析度較高，唯一可得到原子大 小解析成像的模式。 (c) 適用於表面起伏大的樣品。 接觸模式之缺點： (a) 掃瞄時產生摩擦力會使成像失真。 (b) 吸附現象、表面黏性、彈性等因素會影響 表面形貌。 (c) 較容易刮傷樣品表面。 非接觸模式之優點：可減少樣品刮傷。 非接觸模式之缺點：空間解析度較差。 半接觸模式之優點： (a) 橫向解析度較高。 (b) 低作用力，可減少樣品刮傷，故適 合較軟的材料和生物樣本(DNA)。 半接觸模式之缺點：掃瞄速度比接觸模式慢。 AFM掃描模式適用範圍 重大突破 AFM具有三個傳統顯微鏡無法達到的重大突破: AFM具有極高度的解析力 AFM具有三維立體的成像能力 AFM可以在多種環境下操作 AFM的結構 生物科技上的應用 解決生物學難題的理想工具： (1)樣品不需具導電性 (2)對DNA、蛋白質進行形態分析 (3)進行直觀下的分子剪輯、DNA特殊位點的定位 AFM之運用 IC材料檢測 由掃描元件表面來偵測其缺陷與否，來偵測磁碟片（CD、DVD）等模版的表面是否有缺陷。 用以掃描空白光碟片，利用電腦運算可以量測其組成是否一致及其截面的對稱性。 * 原子力顯微鏡 Southern Taiwan University of Technology 概述 1982年IBM蘇黎世研究所的Binnig 與Rohrer[1]及其同事成功地研製出第一台掃描式穿隧顯微鏡(Scanning Tunneling Microscopy，STM)，為人類在奈米級乃至在原子級水準研究物質的表面原子、分子的幾何結構及與電子行為有關的物理、化學性質開闢了新的途徑 1986 年，Binnig，Quate 和Gerber[2]發明了原子力顯微鏡(Atomic Force Microscopy，AFM)改良了掃描式穿隧顯微鏡(STM)需導電材料的限制，使得研究的材料表面不再受限於導電性材料，彌補了掃描式穿隧顯微鏡(STM)的不足。 AFM的操作原理 原子力顯微鏡（AFM）之量測方式主要是利用光學放大原理，感測探針的微小彎曲或振動。 首先，使用雷射二極體產生一雷射光束，經鏡片聚焦於探針尖端背面，再反射至四象限光檢測器上，並在光檢測器的四個象限上感測到不同大小的電流。當探針產生變形時，光感測器接收到的光點位置會變化，而改變光感測器的每個象限的電流大小，而感測到作用力的程度，此反應的程度和針尖與試片表面的距離有關。 AFM之操作原理與迴授控制系統 AFM在檢測試片表面特性時，微探針會先接近掃瞄試片表面，在兩者距離極為接近約10nm 產生超距力場，而受力的程度會和針尖與試片表面的距離相關，再利用感測器來檢測探針受力變形的程度，將此感測訊號迴授給控制系統，控制掃瞄平台來維持試片與微探針的距離，進而得到試片局部表面的高度，最後，配合二維掃瞄平台的移動則可構畫出表面形貌。掃瞄平台的動作方式可以是將微探針固定而移動試片，或是試片不動而微探針作掃瞄運動。 x-scanner z-scanner y-scanner Laser Sample photodetector ECU PC PID V Topography 原子力顯微鏡之分類 接觸模式 (Contact AFM) 非接觸模式 (Non-Contact AFM) 半接觸模式（Semicontact Mode AFM） 接觸式 (Contact mode) 定高度模式(Constant height mode) 　　 接觸式 (Contact mode) 定力模式(Constant force mode) 非接觸模式(non-contact mode or NC-AFM) 定振幅方式與共振頻率偏移方式 　 半接觸模式(Tapping Mode) 　　探針和樣品間的距離介於接觸式和非接觸式，即0.5 至數十奈米之間，探針懸臂振動的振幅較大，在振幅最低點的位置，探針恰敲擊試件表面。 　　半接觸式模式和非接觸模式的操作方式類似，屬於動態量測。其成像模式是採定振幅方式，當探針與樣品間產生交互作用力時，懸臂的振幅會增加或衰減，利用壓電掃瞄平台的上下調整可得到定振幅，因此得知樣品表面形像，解析度較非接觸模式的解析度高。 AFM操作模式的比較 解析度：接觸式＞半接觸式（5-10