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1.1 EDA技术的发展.ppt

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1.1 EDA技术的发展

电子系统的物理实现 电子信息技术的具体物理实现主要体现为由电子元器件构成的各种电子电路。 电子系统的物理实现 EDA技术的应用领域 EDA技术不仅应用于各类集成电路的设计,也是PCB设计的必备工具。事实上, EDA技术的应用正在变得越来越广泛。 杭州电子科技大学 EDA技术 集成电路的物理实现 MOS器件结构: 1.1 EDA技术的发展 互连结构 : MOS管由不同层上的半导体材料构成,器件结构由各层的几何图形定义。 电路由器件和连线组成,因此最后也由材料层和连线层的几何图形定义。不同层的这些图形称掩膜版图。 杭州电子科技大学 EDA技术 集成电路版图 AN BN A B Y VSS VDD PMOS A B AN Y 集成电路的设计是一个将电路行为特性转换为一套掩膜版的过程。 一个50万门级的电路,版图由大约108个顶点组成的多边形构成。 1.1 EDA技术的发展 杭州电子科技大学 EDA技术 EDA技术的内容 完成一个复杂电路或系统从行为到物理实现的转换,需要经历从高层到低层的多个设计层次、多个设计步骤。 目前,在几乎各个设计步骤都有一系列的EDA工具,为设计全程提供强有力支持。 包括从系统高层设计,逻辑设计,电路设计,版图设计,到器件设计,工艺设计,及FPGA设计,PCB设计,封装设计等各个方面。 1.1 EDA技术的发展 杭州电子科技大学 EDA技术 EDA的发展: 60--70年代 早期模拟时代的电子设计基本是人工的:从预定的功能与性能出发,选择适当的电路结构与元器件,基于经验与部分理论,在实验线路板上反复调试。 60年代以后计算机逐渐得到推广应用,人们开始用计算机辅助进行电路分析、IC版图编辑、版图验证和PCB图绘制,取代手工操作;但仍需较多人工干预;CAD (Computer-Aided-Design)技术从概念逐渐成形。 70年代出现第一代CAD工具软件,从此开始摆脱用手工进行电子设计时的大量繁难、重复、单调的绘图、计算与部分调试工作。 1.1 EDA技术的发展 杭州电子科技大学 EDA技术 电路模拟/仿真 电路模拟:计算机辅助电路分析,通过列写电路方程并自动求解实现。 1.1 EDA技术的发展 杭州电子科技大学 EDA技术 逻辑模拟/仿真 逻辑仿真:验证逻辑功能与基本时序。 1 0 1 0 1 5 0 1 d delay=1 delay=2 a b c e 0 1 3 6 0 1 4 1.1 EDA技术的发展 杭州电子科技大学 EDA技术 Layout of a PCB(1) 1.1 EDA技术的发展 杭州电子科技大学 EDA技术 Layout of a PCB(2) 1.1 EDA技术的发展 杭州电子科技大学 EDA技术 EDA技术: 80年代 集成电路设计中出现集原理图输入、逻辑模拟、测试生成、电路模拟、版图设计于一体的较完整的设计软件系统--CAE (Computer?Aided?Engineering)工作站;版图与PCB设计中开始出现自动布局布线工具。 设计方法:自底向上,仍需人工设计电原理图。 LSI、VLSI时代(单芯片器件数万~数十万个),80年代末出现ASIC概念。 1.1 EDA技术的发展 杭州电子科技大学 EDA技术 Placement in Chip Design 1.1 EDA技术的发展 杭州电子科技大学 EDA技术 Routing in Chip Design 1.1 EDA技术的发展 杭州电子科技大学 EDA技术 EDA技术: 90年代 数字电路设计采用硬件描述语言VHDL/Verilog HDL,从寄存器传输级开始的逻辑综合基本成熟,高层次行为综合开始出现,大幅度提高了设计效率与设计复杂电路的能力,EDA技术形成。 设计方法:自顶向下,层次式设计 单片集成电路规模达上千万~亿个器件(Intel P6: 750万个晶体管,256M DRAM2.56亿个晶体管)。在ASIC 基础上发展的可编程逻辑器件应用逐渐广泛。 1.1 EDA技术的发展 杭州电子科技大学 EDA技术 逻辑综合 逻辑综合的过程 ab cd 00 01 11 10 00 01 11 10 卡诺图 0 0 1 0 0 0 1 0 1 0 0 0 0 0 1 0 F=abcd + acd + bcd F a b c d RTL描述 转换与优化 工艺库映射 门级网表 1.1 EDA技术的发展 杭州电子科技大学 EDA技术 1.1 EDA技术的发展 杭州电子科技大学 EDA技术 EDA技术:进一步发展 ESL(Electronic System L

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