化学气相沉积制备钨铼合金.pdfVIP

化学气相沉积铡备钨镰合盒 -185· 化学气相沉积制备钨铼合金 马捷侯艳艳张好东王从曾 (北京工业大学材料科学与工程学院功能材料教育部重点实验室北京100022) 摘要 以ReF．、wF^以及Hz为原料，用化学气相共沉积的方法，成功的在铜基片表面沉积出钨铼合金。 实验分析表明：沉积层结构为单相均匀固溶体。沉积膜层显镦组织随沉积温度变化而不同。改变反应气体中 WF6、ReR相对含量可实理膜层威分可控。采用化学气相沉积法沉积钨铼等难熔金属舍金，沉积纯度高，设备 简单沉积速度快，在高温抗烧蚀0女层及耐腐蚀涂层方面具有广泛的应用前景。 关麓词化学气相沉积钨合金工艺 铼的熔点高(3180±20℃)，弹性模量高，在金属中仅次于铱和锇。与其它难熔金属相比， 铼没有脆性转变温度，塑性、韧性优异。铼的再结晶温度最高(1627。C)，并具有优良的抗拉 强度、蠕变极限、持久强度和抗热冲击能力”“。铼的加人有效地提高了钨铼合金的塑性和强度， 并使脆性转变温度降低，再结晶温度升高，增大抗疲劳和热振动能力”1。因此，钨铼合金被广 泛地应用于宇航、原子能、冶金、电子、石油化学等工业中91。化学气相沉积(简称CVD)是 —个发展较为成熟的气相沉积固体薄膜技术，其特点是沉积膜层纯度高、致密，沉积速率高， 容易实现容器内壁及管道内壁膜层沉积，并可以进行多元合金膜层及多层膜沉积”1。对于钨铼 台金的制备，大多采用的是粉末冶金的方法，而在—个大气压下氟化物化学气相沉积的方法未 见有相关文献报道。本文以氟化物化学气相共沉积的方法成功制备了w一鼬涂层，并研究分析 了膜层成分、组织结构形成机翩及反应气体成分及温度对沉积组织的影响。为难熔金属合金膜 层的制备，特别是内管壁耐高温、抗腐蚀难熔金属合金膜层的制备提供了有效方法。 1实验方法 1．1实验原理 通过六氟化钨被氢气还原反应(1)产生气相沉积钨原子。 WFa+3}b_+w+6HF一125kJ／tool (1) 一个大气压下，该反应在温度大于300℃即可发生，60D℃时六氟化钨被氢气还原成钨的化 学反应的平衡常数已接近141。聊％吸附在沉积基体表面被H：逐步还原得到钨原子，其具体过 程为： 形纷_+形再_形E—，形纷_+W (2) w原子也可以由中间氟化物WFn通过反应(3)获得。 ·186· 物理厦其应用 wF—一wFrr呻w (3) 此过程的活化能很小，WFn分解很快，气相沉积中w原子主要通过wFn的分解得到9l。 化学气相沉积铼基本反应方程式为(4)： ’ ReF。+3H2-*Re+6HF一288KJlmol (4) 一个大气压下，化学气相沉积铼反应在温度大于200℃即可发生。ReR被Hz还原生成Re， 、 同时生成反应尾气HF。 化学气相沉积铼具体过程为ReF6首先通过化学反应(5黻H：还原生成中间态氟化物ReFn： Ren—+ReFn—÷Re (5) 生成的ReFn进一步和氢气反应生成铼…”。 铼在钨中的最大溶解度达36．6％(3006E)口目前受熔炼限制铼的最大含量只可达到26％。 超过溶解范围钨铼之间可以形成wn*A凶*(立方品格)等金属间化合物。当反应室中同时发 生反应(1)和反应(4)时，还原生成钨、铼原子将在基材表面共沉积，生成钨铼合金沉积层。 1．2化学气相沉积方法 实验沉积装置如图1所示：