基于非均匀颅骨头模型的电阻抗断层成像算法初步研究.pdfVIP

中国科协第四届优秀博士生学术年会论文集 基于非均匀颅骨头模型的电阻抗断层成像算法初步研究+ 倪安胜董秀珍杨国胜付峰汤池 第四军医大学生物医学工程系，西安，710032 摘要电阻抗断层成像(EIT)可以对脑部电阻率的变化进行成像．在脑部EIT图像重建中， 通常采用四层同心圆头模型，这种模型认为颅骨是一个均匀整体。本文提出了一种基于非均 匀颅骨头模型的二维EIT动态成像算法，并进行了脑出血成像仿真研究。成像结果显示，与 四层同心圆头模型成像结果相比较，采用非均匀颅骨头模型时，EIT成像质量与目标定位准 确性均有一定程度的提高．成像结果表明，提高先验头模型电阻率分布的准确性是一种有效 的提高脑部ErI成像质量的方法． 关键词生物物理学；电阻抗戍像；算法；非均匀颅骨头模型 引 言 电阻抗断层成像(Err)是一种非侵入式的成像方法。它基于四电极阻抗测量原理【11，通过对被测目 标的边界施加激励电流(或电压)，获得被测目标的边界电压(或电流)，从而计算出被测目标内部的电阻 抗变化或分布，进行成像。EIT可以对脑部电阻率的变化进行成像，有关研究表明：EIT方法可以检测出 人体大脑功能性活动引起的电阻抗变化【2．31，也可以检测出由脑部出血、缺血引起的电阻抗变化[41。 在脑部EIT图像重建中，起初采用的是均匀圆头模型，目前通常采用四层同心圆头模型4捌。该模型由 四层同心圆构成，由外及内分别为：头皮层、颅骨层、脑脊液层及大脑，并假设这四层生物组织是均匀的， 具有各向同性。然而，有研究[61表明颅骨的电阻率可分为三层进行测量：内、外密质骨及中间疏松骨。其 电阻率各不相同；此外，颅骨骨缝的存在及其厚度不均，也使不同区域处颅骨的电阻率差异明显17j。在脑 部EIT图像重建中，具有高电阻率的颅骨对激励电流有较大的阻碍作用，对脑部EIT成像影响较大。因此， 颅骨不能简单地作为一个均匀整体对待，而应当在成像中充分考虑颅骨电阻率非均匀分布的性质。 我们建立了一种更接近真实电阻率分布的非均匀颅骨头模型，该模型基于四层同心圆头模型，将颅骨 分为内、外密质骨及中间疏松骨三层，并包含了颅骨骨缝及厚度不均等特性。我们采用修正的 与四层同心圆头模型成像结果相比较，采用非均匀颅骨头模型时，EIT成像质量与目标定位准确性均有一 定程度的提高。当先验非均匀颅骨头模型中不具有颅骨骨缝或厚度不均这些特性时，EIT重建图像质量均 略有下降，但均强于采用四层同心圆头模型的成像质量。成像结果表明，提高先验头模型电阻率分布的准 确性是一种有效的提高脑部EIT成像质量的方法。 1 研究方法 1．1正问题 我们只考虑场域内的电阻率分布。若EIT所研究的区域为Q，其边界为aQ，区域中电位分布函数为①， ’国家自然科学基金资助项目 生物技术 电阻率分布函数为，．，则根据电磁场理论，EIT所研究的问题可描述为拉普拉斯方程： V．(r一1V中)=0在Q内 其边界条件为： ，一l娑：一．『在aQ上，‘_=一．，在aQ上 (2) dl，l ①I施=①o (3) 其中，①。、n和_『分别为场域边界的电位、单位法向矢量和法向电流密度。对该方程进行等价变分，利 Element 用有限元方法(Finite 对线性方程组求解，也就是EIT正问题的求解过程。 1．2逆问题 重构中的平方和误差函数，求其最小值时所对应的电阻率分布。目标函数通常构造如下： T(f—V。) (4) 西(r)=去(f—Vo 二 其中，r是场域电阻率分布矩阵，v．为当前场域边界电压矩阵，f为由电阻率分布r通过有限元方法正向计 算得到的边界电压分布矩阵