二维纳米选编.ppt

第五章 二维纳米结构-纳米薄膜 第一节 纳米薄膜的分类 纳米薄膜(nano-thin film) 定义:1) 由纳米晶粒构成的薄膜; 将纳米晶粒嵌在某种薄膜中的复合膜;每层厚度在纳米量级的单层或多层膜. 分类级别 1) 按微结构分类. 含有纳米粒子;厚度为纳米级 2)按用途分类. 功能纳米薄膜,结构纳米薄膜 3) 根据层数分类 单层或多层 第二节 纳米薄膜的制备方法 一、物理法 1 真空蒸发镀膜 加热方式有：电阻加热，电子束加热，高频加热 原理：经高温蒸发的原料蒸气在基体上成膜 电子束加热法装置原理图 真空蒸镀法的应用 蒸镀法具有速度快的优点，可用于制备不同功能的纳米膜，如导电膜，光学增透膜，金属膜等。 缺点：膜强度不高，控制合金成分有效率低。 2、溅射镀膜 原理：在真空室中，利用荷能粒子轰击靶材表面，使被轰击出的粒子在基片表面成膜。 离子溅射产生原理：高能辐射离子轰击固体，部分被轰击的原子克服表面能飞离固体的现象 溅射产额与入射离子能量关系 贱射技术 直流溅射技术 三极和四极溅射 射频溅射 磁控溅射 离子束溅射 溅射镀膜技术的应用 低温合成高温材料 SiC用CVD法温度为1330度，而用溅射法只需500度。 多层结构的连续合成 3 离子镀膜 离子 镀是指在镀膜的同时，利用离子轰击基体表面和膜层的镀膜技术，其目的是改善膜层的性能。 离子镀的分类： 1) 空心阴极离子镀 2) 多弧离子镀 3)离子束辅助沉积 4 分子束外延法 原理：在超高真空下，使具有一定热能的两种或两种以上的分子(原子)束喷射至被加热的衬底上，在衬底表面进行反应，并生成薄膜样品的过程。 二、化学法 1 化学气相沉积法(CVD) CVD的分类: CVD的特点 中温和高温下，通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而沉积固体 可以在常压或者低于常压下进行沉积 采用特殊技术，沉积可以在更低温度下进行 可以改变沉积层的化学成分，得到混合沉积层 可以控制沉积层的密度与纯度 绕镀性好，可在复杂形状的基体及颗粒材料上沉积 气流条件通常是层流的，在基体表面形成厚的边界层 沉积层通常具有柱状晶体结构，不耐弯曲，但通过其他技术可以改善。 可以形成多种金属，合金，陶瓷和化合物的沉积层。 CVD的反应类型 CVD的原理 以TiCl4 +CH4+H2反应析出TIC为例 析出过程 反应气体向基片表面扩散 气体分子被吸附到基片或薄膜表面 气体分子、原子在基片或薄膜表面发生化学反应 反应产物沉积在基片上形成薄膜，反应副产物离开基体表面。 2. 溶胶-凝胶法(Sol-gel) 优点: 工艺简单,便于推广 温度底,不排斥易挥发原料 制膜形状多样和基片材料选择性高 有效控制薄膜的成分和结构 用料省,成本降低 三、分子组装法 分子组装技术：将具有一定功能的分子(包括生物分子)，在分子或超分子尺度范围内，通过物理或化学的方法聚集成稳定的有序体系的方法。 分子组装技术 LB膜技术和分子自组装技术 LB膜技术 由Langmuir-Blodgett首先发现。 技术内容：将双亲分子在水面形成有序的紧密单分子层膜，再利用端基的亲水、疏水作用将单层膜转移至固体基片上。 LB膜的分类 X型，Z型和Y型 LB膜的制备方法 A. 垂直提拉法 B. 水平附着法 单分子层排列整齐 避免垂直提拉法所存在的流动变形问题 C. 亚相降低法 D 单分子层扫动法 第三节 纳米薄膜的性能 一 力学性能 膜的硬度跟系统有关.有些比正常形态硬,有些变软. 韧性. 多层膜会提高材料的韧性. 耐磨 研究较少. 但如果合理地搭配材料可大大提高材料的耐磨性 二 光学性能 蓝移和宽化 线性和非线性. 三 电磁学性能 永久磁体潜在材料 增国电导率. 如非晶Si膜 改变巨磁电阻效应 气敏特性,可充当气体反应催化剂 第四节 纳米薄膜的应用 一 纳米光学薄膜 用于分解有机物,氧化室内有害气体. 吸收紫外线,保护眼睛. 增加光反射率,节能 二 纳米耐磨损膜与纳米润滑膜 纳米磁性薄膜 用于读出磁头,磁敏传感器,磁敏开关 纳米气敏薄膜 纳米渗透薄膜 纳米绝缘薄膜 纳米光电转换薄膜 制作分子电池 已用于瑞士的欧米茄表 CVD的反应系统 * 射频磁控溅射SiO2装置图 水平附着法优点 *