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单晶硅表面制绒及其特性研究_戴小宛
第 卷 第 期
43 2 人 工 晶 体 学 报 Vol． 43 No． 2
，
2014 年 2 月 JOUＲNAL OF SYNTHETIC CＲYSTALS February 2014
单晶硅表面制绒及其特性研究
戴小宛1，2 ，张德贤1，2 ，蔡宏琨1，2 ，仲玉泉1 ，于 倩1 ，苏 超1
( ， ; ， )
1． 南开大学信息技术科学学院电子科学与微电子系 天津 300071 2． 天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室 天津 300071
摘要: 研究了在不同的碱液( ， ， ， ， ( ) ， ) 和异丙醇( ) 制绒下单晶
NaOH Na2 CO3 NaHCO3 Na2 SiO3 Ca OH 2 CH3 COONa IPA
， ，
硅表面金字塔结构的变化情况 使用分光光度计测量了不同结构表面的反射率变化。结果表明 金字塔绒面的表
，
面反射率与金字塔结构及大小分布情况有关 实验中获得的最低表面反射率为 7． 8% 。金字塔结构断面 SEM 图显
， ，
示金字塔顶角在断面上的投影角度不会随反应条件和金字塔大小改变 维持在 80°左右。最后 通过制绒后硅片表
面金字塔形貌的扫描电镜图样和反射率的分析，提出了织构率 的概念，得到了快速了解单晶硅表面金字塔覆盖
α
率的方法。
关键词: 单晶硅; 陷光结构; 织构率; 反射率
， ( )
中图分类号: TK514 TM914． 4 文献标识码: A 文章编号: 1000-985X 2014 02-0308-06
Study on the Property and Texturing of Monocrystalline Silicon Surface
， ， ，
1 2 ， 1 2 ， 1 2 ， 1 ， 1 ， 1
DAI Xiao-wan ZHANG De-xian CAI Hong-kun ZHONG Yu-quan YU Qian SU Chao
( ， ， ， ， ;
1． Department of Electronics and Photoelectronics College of Information Technical Science Nankai University Tianj
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