LCD工艺中使用的碱性溶液对SiO2膜层的刻蚀作用.pdf

维普资讯 第 7卷 第 3期 光学 精密工程 V0l_7。No．3 1999年 6月 0PTICSAND PRECIS10N ENGINEERING June．1999 LCD工艺中使用的碱性溶液对 SiO 膜层的刻蚀作用 汤安东 刘金瑞 ／王秋花 黄永卓 ．．_-_- _ · ‘一 ．__- — 一 (1深圳莱宝真空技术有限公司 深州518034) (2秦皇岛市玻璃厂 秦皇岛066000) (3秦皇岛莱成电子有限公司 秦皇岛066004) 摘 要 钠钙玻璃基片上的SiO：膜层在很大程度上决定丁灌晶显示器件 (LCD) 的化学稳定性及使用寿命。车文以射糍溅射法制备的S；O。膜层为样品，结合LCD工艺 特点．初步研究分析丁其工艺流程中所使用的不同碱性溶液对S；O：膜层不同的劐蚀作 用。本文的结论有利于在 LCD工艺 中更好地保护 SiO：膜层 ． 关键词 蔓曼星 器件 Q!望星 蔓丝盎婆 1引 言 tI 近十年以来，随着平板显示 (FPD)技术的迅猛发展 】，特别是其中的液晶显示器件 (LCD) 由于具有重量轻、体积小、厚度薄、驱动 电压低、功耗小以及容易与大规模集成 电路相匹配等特 点，而使得 FPD的重要原料SiO：+氧化铟锡 (I1D)镀膜玻璃 已经成了十分重要的一个产业． 在中国大陆，ITO镀膜玻璃一年的销售额就达 6000万美元。由于具有表面平整性好，价格低 及工艺、品质稳定等一系列忧点．在 LCD制造业中几乎都采用浮法工艺生产的钠钙玻璃作为 其基板。然而在镀制 ITO膜时，为获得 良好的膜层性能，玻璃基片须加热到 350(2左右0潮I在 LCD工艺中，为固化液晶取向膜聚酰亚胺膜 (PI膜)而需在 300℃环境中烘干近 90mln[“。在 上述高温情况下 ．钠钙玻璃基片中的碱金属阳离子 (特别是离子半径较小的钠离子)能够很容 易地迁移扩散到 ITO膜层中而影响其形成线路的导电性并进而扩散到液晶层中。液晶是高电 阻材料，受导 电的Na污染后，将严重地影响显示的质量。因此，为了提高LCD器件的性能和 最终使用寿命，须在 ITO导电层与钠钙玻璃基片之间镀一层 S；O：膜层以阻挡Na+的迁移 。 收瞢 日期．1998—10—07 謦瞢 日期I1999—0l一10 维普资讯 3期 溺安东 等tLCD工艺 中使用的碱性溶液对 StO：膜层的刻蚀作用 7s 目前 ，人们 已开发出蒸发、化学汽相沉积、液相沉积、射频溅射、以及溶胶一凝胶法 来制各 SiO：膜层并都已取得了商业上的应用。其中以射频溅射法制备的膜层性 能最为优 良，但限于 沉积速度低，一般膜厚为 20．0nm左右，且设备成本很高 ；其它方法制备的 SiO；膜成本低，但 由于膜层结构疏松和多孔，为保证阻挡Na的性能，膜厚一般在 80．0nm 以上． 本文结合LCD工艺的特点，以射频溅射法制备的SiO；膜层为样品-初步研究分析了其工 艺流程中对 SiO；膜层的破坏作用，总结出不同的碱性溶液对 SiO：膜层不同的刻蚀速率，这方 面的研究 目前还未见报道 ．本文的结论有利于在 LCD工艺中更好地保护 SiOt膜层． 2 实验方法 2．1 SIO，薄膜的制备 本实验所用的siO 薄膜 由射频磁控 溅射法制备，射频频率为 13．56MHz，采用 德国Balzers公司的ZV一800镀膜生产线， 溅射靶材为 100％的纯石英．尺寸为 1020 【Ⅱm)I 耄 _玉 ¨ ¨ ”