多弧-磁控溅射法制备Ti-Si-N纳米复合涂层及涂层的结构和力学性能.pdfVIP

学兔兔 第l5卷第6期 粉末冶金材料科学与工程 2010年 12月 V0I．15 No．6 Materials Science and Engineering of Powder Metallurgy Dec．2O1O 多弧一磁控溅射法制备Ti．Si．N纳米复合涂层及 涂层的结构和力学性能 刘传胜，杨种田，杨 兵，田灿鑫，付德君 (武汉大学 加速器实验室，武汉 430072；武汉大学 动力与机械学院，武汉 430072) 摘 要：用内外靶配置的多弧一磁控溅射技术在单晶硅和硬质合金上制备Ti．si。N纳米复合涂层，研究衬底偏压和 Si靶溅射电流对涂层结构和力学性能的影响，经过实验参数优化，在偏压为一150 V、Si靶电流为15 A的沉积条 件下，得到Si的原子分数为6．3％的Ti—Si—N纳米复合涂层。x射线衍射、x射线光电子能谱和透射电镜分析表明， 涂层中含有晶态TiN和非晶Si3N4，纳米尺寸的TiN颗粒镶嵌在非晶si3N4基体结构中。纳米硬度计测试表明涂层 的显微硬度为40 GPa，摩擦学实验表明其摩擦因数为0．89，可满足Ti—si—N纳米复合涂层的工业化应用要求。 关键词：多弧离子镀；中频磁控溅射；Ti—Si—N；纳米复合涂层 中图分类号：TG174．44 文献标识码：A 文章编号：1673—0224(2010)6—543．06 Structure and mechanical properties of Ti—Si—N nanocomposite coatings prepared by cathodic arc assisted magnetron sputtering process LIU Chuan—sheng，YANG Zhong—tian，YANG Bing，TIAN Can—xin，FU De-jun (Accelerator Laboratory,Wuhan University,Wuhan 430072，China； College of Power and Mechanical Engineering，Wuhan University,Wuhan 430072，China) Abstract：Ti··Si--N nanocomposite coatings were prepared on Si and cemented carbide substrates by using an industrial scale cathodic arc assisted medium—frequency magnetron sputtering system．The microstructure and properties of the coatings are predominately controlled by the bias voltage on the substrate and sputtering current of the Si magnetron target．X—ray diffraction，transmission electron microscopy,X—ray photoelectron spectroscopy and nanoindentation were employed to investigate the microstructure and mechan