阴离子交换膜修饰的水1,2-二氯乙烷界面上SO42-离子的转移反应.pdfVIP

Vo l. 37 No.3 高等学校化学学报 2016 年3 月 CHEMICAL JOURNAL OF CHINESE UNIVERsmES 546 - 551 doi: 10.7503/cjc 阴离子交换膜修饰的水/1 ， 2·二氯乙炕界面上 so;-离子的转移反应 王欢欢，胡道盼，江旭恒，张烨桦，陈 勇 (上海应用技术学院化学与环境工程学院，上海 201418 ) 摘要 将一种均相季镀型阴离子交换膜用于修饰7j(!1 ， 2-二氯乙皖(W/DCE) 界面，并利用循环伏安法、差分 脉冲伏安法和计时电量法考察了该界面上强亲水性阴离子 SO~- 的转移反应过程.研究结果表明，该阴离子 交换膜所修饰的 W/DCE 界面比修饰前具有更宽的电化学窗口，而且在界面上可获得完整的 SO! 转移的循 环伏安曲线和差分脉冲伏安曲线.其中，循环伏安曲线的峰电流与扫速平方根呈线性关系， sO;- 在膜内水 S 2 相中的扩散系数为7.6xlO- cm /s; 差分脉冲伏安曲线的峰电流与 SO;- 的浓度在5 -25 mmoVL 范围内呈线 性关系.另外，利用计时电量法测得SO;- 在该界面上转移反应的标准速率常数为1.49xlO飞m/s. 关键词 阴离子交换膜;液/液界面;离子转移;硫酸根 中圈分类号 0646 文献标志码 A 膜修饰液/液界面电化学是液/液界面电化学的一个重要组成部分，其在离子检测[1] 、电化学萃取 分离[2] 以及模拟生物膜[3] 等方面具有广泛的应用前景.与玻璃管支撑的单、双通道微、纳米液/液界面 相比[川]，膜修饰液/液界面不仅可以利用多孔膜内微、纳米孔道的尺寸限制作用在膜表面或者膜内支 撑得到微、纳米液/液界面的阵列，从而增强传质和放大电化学信号;而且还可以利用多孔膜材料的结 构和性能特点对液/液界面进行修饰，从而提高界面的尺寸和电荷选择性{忖]近年来，研究人员将各 种不同结构和性能的膜材料用于修饰液/液界面[肌20] ，并且研究了在该界面上的离子转移反应过程. 例如， Pereira 等[10 ， 11] 研究了聚醋膜支撑的阵列微米·液/液界面上道诺霉素等离子的转移反应及其电化 学分析和检测; Lu 等[12] 利用阳极氧化铝膜支撑液/液界面模拟神经传导系统中的离子通道，并通过调 节阳极氧化铝膜内纳米孔道的直径、长度和内壁表面荷电状态来模拟生物膜内离子通道的选择性[叫; Arrigan 等[14 ， 15] 发展了一种多孔硅和氮化硅膜用以支撑阵列微、纳米液/液界面，并且将其应用于各种 离子的检测和分析; Dryfe 等[币，17] 则利用具有微孔结构的沸石膜支撑液/液界面，并研究了该界面上的 离子转移反应过程;本课题组[阻，19] 将一种复合介孔膜用于支撑阵列介观液/液界面，并将其应用于离 子的检测和电化学萃取分离.然而，值得注意的是，有机荷电膜在膜修饰液/液界面电化学中的应用研 究还相对较少，尤其是广泛应用于电渗析等领域的离子交换膜的研究[21] 前文[20] 采用阴离子交换膜 修饰7j(11 ， 2-二氯乙烧界面，并考察了该界面上的离子转移反应过程，发现该界面不仅具有较好的尺寸 和电荷选择性，还可观察到一些强亲水性阴离子的转移过程，但其中所涉及的热力学和动力学问题尚 待进一步探讨. 本文以强亲水性阴离子so!- 为分析对象，利用循环伏安法、差分脉冲伏安法和计时电量法研究了 其在均相阴离子交换膜修饰的才(/1 ， 2-二氯乙皖(W/DCE) 界面上的转移反应过程，并探讨了所涉及的 热力学和动力学问题，包括扩散系数以及反应速率常数等.本工作不仅丰富了膜修饰液/液界面电化 学的研究内容，而且也为将液/液界面电化学发展成为一种新方法用于研究离子交换膜的性能奠定了 基础. 收稿日期: 2015-08 -07. 网络出版日期: 2015-12-26.