掺杂剂种类对大直径直拉硅单晶中void微缺陷的影响.pdfVIP

掺杂剂种类对大直径直拉硅单晶中void微缺陷的影响.pdf

  1. 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
  2. 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  3. 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  4. 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  5. 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  6. 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  7. 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
掺杂剂种类对大直径直拉硅单晶中void微缺陷的影响

396 () Vol.396 2006 12 A cta S cientiarum N aturalium Universitatis N ankaiensis Dec.2006 : 0465-7942(2006) 06-0064-04 void 1, 2 2 2 2 1 郝秋艳 , 孙文秀 , 刘彩池 , 张建强 , 姚素英 ( 1. , 300072; 2. , 300130 ) : . , , , , . , , FPDs Ar void . , N2 B O2 FPDs Sb O2 FPDs . : ZSi; ; FPDs; : TN304. 01: A 0 , 3 4 , , (ULSI) .2010 , 0.07 m, 2015 25 nm. . , , . , , . , ULSI 1/ 3 , , . . 100 nm , ULSI , DRAM (GOI) , LO OS(local oxidation of silicon) . [ 1] () [ 2] ( ) [ 3] ( ) Void OPs FPDs LST Ds ., (GOI) , . void , void , . void . 1 , 150 mm, 100 , 0. 81. 1mm min/ .1 195 , 1. : 2006-05-20 :( 2005000057) ; (043602511) ;( 2004311) E :( 1972- ) , , , . 6 :void 65 1 Table 1The parameters and annealing project of wafers - 1 - 1 / ( cm ) / (mg L ) RT A / s 2. 63. 0 2130 60120180300500 B Ar N2 O2 P 2. 74. 0 2430 Ar 60120180300 B 0. 0040. 007 2429 Ar 60120180300 As 0. 035 2430 Ar 60120180300 0.010. 03 24. 432. 1 60120180300500

文档评论(0)

yan698698 + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档