脉冲激光沉积NiCo_2S_4薄膜及其电化学特征.pdfVIP

第 31卷第 12期 无 机 化 学 学 报 V01．31No．12 2015年 12月 CHINESEJOURNALOFINORGANICCHEMISTRY 2331—2336 脉冲激光沉积NiCo2S4薄膜及其电化学特征 刘家斌 12 张 辉 1 崔艳华 ，1 刘效疆 ， 刘敬松 f中国工程物理研究院电子工程研究所，绵阳 621000) f2西南科技大学材料科学与工程学院，绵阳 621000) 摘要 ：采用脉冲激光沉积法制备 了NiCo2S薄膜 ，利用恒流充放 电和循环伏安测试研究了NiCo2S薄膜作为锂离子 电池负极材 料的电化学性能和充放 电机理。采用高分辨电子显微镜和选区电子衍射(TEMSAED)表征了NiCoS薄膜首次循环过程中的组 成与结构变化。恒流充放 电测试结果显示NiCo2S薄膜在 3 A ·em 的放电ac流下，0～3V(vsLi~L／i)范围内，薄膜的首次放电容 量为 698mAh．g一-，经过 200次循环之后 的放 电容量为 365mAh·g～；在循环伏安测试中得到了分步反应 的可逆氧化还原峰。 TEM 和 SAED分析结果揭示 了NiCo2S薄膜与 Ⅱ 的电化学反应机理 ：首次放 电过程中NiCo2S与 Li发生转化反应生成 了LizS、 Ni和 Co．充 电后生成 了CoS和NiS复合薄膜。后续循环为 CoS和 NiS复合薄膜的可逆分解与形成。研究表 明NiCo：S是～种有 潜在 应用价值 的锂离子 电池负极材料 。 关键词 ：NiCo2S薄膜 ；脉冲激光沉积 ；负极 ；锂离子 电池 中图分类号：TM912 文献标识码：A 文章编号：1001—4861(2015)122331—06 DoI：1O．11862／CJIC．2015．306 PulsedLaserDepositedNiCo~S4ThinFilmsandInvestigationofTheirElectrochemical Properties LIUJia-Bin。 ZHANGHui CUIYan—Hua ，． LIUXiao—Jiang LIUJin—Song (~InstituteofElectronicEngineering,ChinaAcademyofEngineeringPhysics，Mianyang,Sichuan621000,China) (~SchoolofMaterialsScienceandEngineering，SouthwestUniversityofScienceandTechnology,Minayang,Sichuan621000，China) Abstract：NiCo2S4 thin films have been successfully prepared by pulsed laser deposition．The structural， electrochemicalpropertiesandreactionmechanism oftheNiCo2S4thinfilm anodesforlithium ionbatterieshave beeninvestigatedbytransmissionelectronmicroscopy (TEM)，selected—areaelectrondiffractionmeasurements (SAED)，thecharge／dischargemeasurementsandcyclicvoltammetry(cv)．Thecharge／dischargeresultssuggested thatintherangeof0-3．0V (ysLi+／Li)，thereversibledischargecapacitywas698mAh·g atacurrentdensityof 3txA c‘m之．After200cycles．thedischargecapacitywas365mAh·g～．