含有偶氮苯和1,3,4-噁二唑结构聚合物的合成及性能.pdfVIP

第27卷第 lO期 应 用 化 学 Vo1．27No．10 2010年 l0月 CHINESEJOURNALOFAPPUED CHEMlsrrRY 0ct．20l0 含有偶氮苯和 1，3，4M嗯二唑结构聚合物的合成及性能 李 聪 于世钧 张 跃 王 璐 冯春梁 靳奇峰 (辽宁师范大学化学化工学院 大连 116029) 摘 要 合成了同时含有偶氮苯和 1，3，4一嚼二唑结构的新型共轭聚合物 (LPOXD)，采用 FTr．IR、uV．Vis、 ’H NMR 、 GPC、TGA和DSC测试技术对其结构进行 了表征。结果表明，所得共轭聚合物的特性粘数为 0．02960L／g，M 和分子量分布指数 PD1分别为8500g／mol和 1．55。质量损失 5％的温度为 290℃， 为 92．8℃。长烷氧基侧链的引入极大地提高了LPOXD在氯仿和四氢呋喃等有机溶剂中的溶解性。采用紫外． 可见吸收光谱 、荧光光谱及循环伏安对LPOXD的光电性能进行了研究。结果表明，在 365nm紫外光照射下 ， LPOXD中偶氮苯发生反 ·顺异构化；350nm光激发下 ，LPOXD在蓝紫光波长范围内发射荧光；循环伏安测试 得出LPOXD最高占有轨道(HOMO)能量和最低空轨道 (LUMO)能量分别为一5．96和一3．17eV。 关键词 偶氮苯 ，嚼二唑，聚合物，合成 ，性能 中图分类号 ：O631 文献标识码 ：A 文章编号：1000-0518(2010)10．1138-06 DOI：10．3724／SP．J．1095．2010．90835 偶氮基团在光和热的作用下可以进行顺反异构化反应，此独特性能受到广泛重视。但偶氮类小分 子化合物的稳定性较差 J，将偶氮基团引入聚合物分子中，可改善其稳定性和加工成型性能，同时表现 出各种光响应性能，如光致相变、光致取向和光致表面起伏光栅等_2]。曝二唑类基团具有强的电子亲合 势、高光致发光量子产率、良好的热稳定性和化学稳定性，含 1，3，4．嚅二唑聚合物在光电功能材料领域 已显示出其应用价值 。目前，大多数合成的电子传输、发光、空穴传输一体化的高分子材料溶解性能 较差，使其应用受到极大的限制 J。同时具有正十六烷氧基偶氮苯和 1，3，4一嚼二唑结构的类似聚合物 性能方面研究尚未见报道。本文合成了5-[4一(正十六烷氧基)苯基偶氮]-1，3一苯二甲酰肼，进一步与间 苯二甲酰氯反应、三氯氧磷关环得到兼有正十六烷氧基偶氮苯和 1，3，4．嚼二唑结构的新型共轭聚合物 (LPOXD)，该聚合物具有优 良的溶解性、热稳定性、良好的光响应性能、荧光性能和高电子亲和势，在光 电功能高分子材料领域具有潜在的应用价值。 聚合物合成路线如Scheme1所示。 ∞ CHjCH2OH — H2SO4 QC。。 COOCHzCH3 1旦!! 呈! H2N o “ 。cc c C2H5OOC H，NHNOC 2009—12．11收稿，2010-03-05修回 国家 自然科学基金、辽宁省教育厅科学研究基金(2009A392)资助项 目 通讯联系人：于世钧，男，硕士，教授；E-mai