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退火温度对锆酸铅薄膜光学性能的影响.pdf

退火温度对锆酸铅薄膜光学性能的影响

第 卷第 期 广东工业大学学报 Vol .22 No . 1 22 1 年 月 2005 3 Journal of Guangdong University of Technology MaTch 2005 退火温度对锆酸铅薄膜光学性能的影响 1 2 3 蒋力立 ,唐新桂 ,唐振方 ( 广东工业大学 实验中心,广东广州 ; 广东工业大学 应用物理学院,广东广州 ; 1. 510090 2 . 510090 3 . 暨南大学 物理系,广东广州510632 ) 摘要:用溶胶 凝胶法在石英玻璃基片上成功地制备了 ( )薄膜 射线衍射分析结果 - PDZTO PZ . X 3 表明晶化好的 薄膜,是多晶钙钛矿结构 晶化的薄膜,晶粒尺寸为 用紫外 可见 PZ .750 C 30 ~ 50 nm . - 光分光光度计在波长 范围内,测量了不同温度退火的 薄膜的透射率,结果表明 、 200 ~ 900 nm PZ 450 、 退火的薄膜样品,其光学吸收边分别为 、 、 600 750 C 4 . 11 4 .56 4 .59 eV . 关键词: 薄膜;光学特性;吸收边 PDZTO 3 中图分类号: 文献标识码: 文章编号: ( ) O484 A 1007-7162 2005 01-0007-03 在过去 年,报道 反铁电薄膜材料的文章比较少, 第一个报道了制备锆酸铅 10 PDZTO3 Budd ( )薄膜,他们观察到用溶胶 凝胶法制备的 薄膜易开裂,相对 或 ( , ) PDZTO3 - PDZTO3 PDTiO3 PD ZT Ti [] ( )薄膜来说难以晶化;后来 和 1 等用醋酸改性制备的 薄膜改进了其介电特 O3 PZT Li Wang PDZTO3

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