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退火温度对锆酸铅薄膜光学性能的影响
第 卷第 期 广东工业大学学报 Vol .22 No . 1
22 1
年 月
2005 3 Journal of Guangdong University of Technology MaTch 2005
退火温度对锆酸铅薄膜光学性能的影响
1 2 3
蒋力立 ,唐新桂 ,唐振方
( 广东工业大学 实验中心,广东广州 ; 广东工业大学 应用物理学院,广东广州 ;
1. 510090 2 . 510090
3 . 暨南大学 物理系,广东广州510632 )
摘要:用溶胶 凝胶法在石英玻璃基片上成功地制备了 ( )薄膜 射线衍射分析结果
- PDZTO PZ . X
3
表明晶化好的 薄膜,是多晶钙钛矿结构 晶化的薄膜,晶粒尺寸为 用紫外 可见
PZ .750 C 30 ~ 50 nm . -
光分光光度计在波长 范围内,测量了不同温度退火的 薄膜的透射率,结果表明 、
200 ~ 900 nm PZ 450
、 退火的薄膜样品,其光学吸收边分别为 、 、
600 750 C 4 . 11 4 .56 4 .59 eV .
关键词: 薄膜;光学特性;吸收边
PDZTO
3
中图分类号: 文献标识码: 文章编号: ( )
O484 A 1007-7162 2005 01-0007-03
在过去 年,报道 反铁电薄膜材料的文章比较少, 第一个报道了制备锆酸铅
10 PDZTO3 Budd
( )薄膜,他们观察到用溶胶 凝胶法制备的 薄膜易开裂,相对 或 ( , )
PDZTO3 - PDZTO3 PDTiO3 PD ZT Ti
[]
( )薄膜来说难以晶化;后来 和 1 等用醋酸改性制备的 薄膜改进了其介电特
O3 PZT Li Wang PDZTO3
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