！—#$基团对！%#$低！薄膜性能的影响及控制！.PDFVIP

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 $$ $ %% $ ， ， ， IO8 0$$ NO 0$ P7: %% （ ） #%%%5)(%K%%K$$ %$ K%5%’ L-CL H/M+B-L +BNB-L !%% -Q,A 0 HQ:= 0 +O9 0 — 基团对 低 薄膜性能的 ! #$ !%#$ ! 影响与控制! ! 叶 超 宁兆元 辛 煜 王婷婷 俞笑竹 （苏州大学物理科学与技术学院，江苏省薄膜材料重点实验室，苏州 #$%% ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） %%$ $ #’ %%$ ( #) 研究了十甲基环五硅氧烷（ ）的电子回旋共振等离子体沉积的 薄膜中 — 基团对介电性能和漏 *$ +,-./ +, ./ 电流的影响 结果表明 — 含量的增大会导致介电常数 的增大、漏电流的降低和介电色散的增强 由于 — 0 +, ./ ! 0 +, 结构的强极化补偿了薄膜密度减小带来的介电常数降低，导致总的介电常数 增大 高 — 含量下漏电流 ./ ! 0 +, ./ 的降低是由于封端的 — 基团降低了薄膜中 — 网络的连通概率 而导致网络电导下降的缘故 介电色散 +, ./ +, . 0 的增强与 — 封端结构的快极化过程有关 改变放电参数以提高电子能量，从而提高源的电离程度，使更多的 +, ./ 0 — 基团断裂并通过缩合反应形成 — — 网络，可以进一步降低薄膜的介电常数 +, ./ +, . +, 0 关键词： 薄膜， — 结构，介电性能， 放电等离子体 +,-./ +, ./ 1-2 ： ， ， ’%% ’3)% ’’%% 3##$ ［ ， ］ — — 结构的中间产物#% ## 或是工艺过程中吸 +, . +, ［ — ］ 附的水气# # 由于 — 是